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마이크로웨이브-직류 혼합형 대기압 또는 저진공 플라즈마 발생원

  • 기술번호 : KST2019017203
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 마이크로웨이브-직류 혼합형 대기압 또는 저진공 플라즈마 발생원은 마이크로웨이브를 생성하는 마이크로웨이브 소스; 상기 마이크로웨이브 소스에서 생성된 마이크로웨이브를 전송하고 상기 마이크로웨이브 DC를 차단하는 DC 차단부(DC breaker); 상기 마이크로 웨이브 소스에서 생성되어 전송되는 마이크로웨이브의 방전에 의해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부; 및 상기 플라즈마 발생부의 말단부에 형성되어 고전압 전원부로부터 고전압을 인가받아 대전되는 고전압 대전부;를 포함하여, 샘플부를 플라즈마 처리하되, 상기 샘플부는 접지되어 상기 고전압 대전부와의 전기적 포텐셜을 형성하고, 상기 고전압 전원부에서 고전압 대전부로 인가되는 전원의 크기에 따라 상기 전기적 포텐셜 제어가 가능하며, 이를 통해 발생된 마이크로웨이브 플라즈마에 추가적인 에너지를 공급함으로써, 기존 마이크로웨이브 플라즈마 발생원의 활용범위를 확장할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL H05H 1/30 (2006.01.01) H05H 1/34 (2006.01.01)
CPC H05H 1/30(2013.01) H05H 1/30(2013.01)
출원번호/일자 1020180021035 (2018.02.22)
출원인 한국기초과학지원연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0101092 (2019.08.30) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.02.22)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장수욱 세종특별자치시 달빛*로 **,
2 김지훈 전라북도 군산시
3 조창현 전라북도 군산시
4 최대현 전라북도 군산시
5 박현재 전라북도 군산시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장한특허법인 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로 ***, **층 (서초동, 서초지웰타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기초과학지원연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.02.22 수리 (Accepted) 1-1-2018-0186459-73
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.11.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.01.09 수리 (Accepted) 9-1-2019-0001310-30
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0181676-94
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.05.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0486395-32
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2019-0486373-38
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2019.09.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0652002-67
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.10.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-1032282-35
9 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2019.10.10 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2019-1032322-74
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2019.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0778556-59
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5135881-88
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
마이크로웨이브를 생성하는 마이크로웨이브 소스(100);상기 마이크로웨이브 소스(100)에서 생성된 마이크로웨이브를 전송하도록 도파관 형태로 형성되고, 상기 마이크로웨이브가 전송되는 방향과 수직하게 내부에 절연체가 개재되어 상기 마이크로웨이브의 DC를 차단하는 DC 차단부(DC breaker: 200);상기 마이크로 웨이브 소스(100)에서 생성되어 전송되는 마이크로웨이브의 방전에 의해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생부(300); 및상기 플라즈마 발생부(300)의 말단부에 형성되어 고전압 전원부(500)로부터 고전압을 인가받아 대전되는 고전압 대전부(400);를 포함하여, 접지되어 상기 고전압 대전부(400)와의 전기적 포텐셜을 형성하는 샘플부(600)를 플라즈마 처리하는 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브-직류 혼합형 저진공 플라즈마 발생원
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 고전압 전원부(500)에서 고전압 대전부(400)로 인가되는 전원의 크기에 따라 상기 전기적 포텐셜을 제어하는 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브-직류 혼합형 저진공 플라즈마 발생원
4 4
제 3항에 있어서, 상기 DC 차단부(DC breaker: 200)는 인가되는 고전압이 0~30kV 영역에서 단층 구조의 DC 차단부인 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브-직류 혼합형 저진공 플라즈마 발생원
5 5
제 3항에 있어서, 상기 DC 차단부(DC breaker: 200)는 인가되는 고전압이 30~100kV 이상의 영역에서는 절연체와 금속이 복수회 적층 적층된 다층 구조의 DC 차단부인 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브-직류 혼합형 저진공 플라즈마 발생원
6 6
제 3항에 있어서, 상기 플라즈마 발생부(300)는 상기 마이크로웨이브를 인가하여 마이크로웨이브 플라즈마를 발생시키고 이후에 고전압 직류 전원을 플라즈마 발생원과 샘플부(600) 사이에 인가하여 발생된 상기 마이크로웨이브 플라즈마에 추가적인 에너지를 가하는 것을 특징으로 하는 마이크로웨이브-직류 혼합형 저진공 플라즈마 발생원
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 국가핵융합연구소 국가핵융합연구소 연구운영비지원사업 플라즈마 융합 원천 연구사업