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투명한 베이스 기판 위에 보호코팅제가 포함된 보호코팅액을 오버코팅하여 보호코팅층을 형성하는 단계; 및상기 보호코팅층 위에 은나노와이어 분산액을 코팅하여 은나노와이어층을 형성하는 단계;를 포함하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 보호코팅제는 에폭시, 폴리비닐페놀, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리우레탈, 폴리아크릴레이트 또는 폴리비닐페놀/폴리메틸메타크릴레이트 공중합체인 것을 특징으로 하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 보호코팅제는 하이드록시프로필메틸셀룰로우스, 에틸셀룰로우스 또는 2-하이드록시에틸셀룰로우스인 것을 특징으로 하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판의 제조 방법
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제3항에 있어서, 상기 은나노와이어층을 형성하는 단계 이후에 수행되는,열처리를 통해서 상기 보호코팅층에 상기 은나노와이어층을 함침시키는 단계;를 더 포함하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판의 제조 방법
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제4항에 있어서,상기 함침시키는 단계에서 열처리는 70 내지 150℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판의 제조 방법
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투명한 베이스 기판; 및상기 베이스 기판의 일면에 형성되며, 보호코팅층에 은나노와이어가 함침된 투명전극;을 포함하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판
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제6항에 있어서,상기 보호코팅제는 하이드록시프로필메틸셀룰로우스, 에틸셀룰로우스 또는 2-하이드록시에틸셀룰로우스인 것을 특징으로 하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판
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제7항에 있어서,상기 투명전극에 첨가되는 열화방지제;를 더 포함하고,상기 열화방지제는 벤조트리아졸(benzotriazole), 톨리트리아졸(tolytriazole), 부틸 벤질 트리아졸(butyl benzyl triazole), 디티오티아디아졸(dithiothiadiazole), 알킬 디티오티아디아졸들 및 알킬티올들(alkyl dithiothiadiazoles and alkylthiols), 2-아미노-5-메르캅토-1(2-amino-5-mercapto-1), 3,4-티아디아졸(3,4-thiadiazole), 2-메르캅토피리미딘(2-mercaptopyrimidine), 2-메르캅토벤족사졸(2-mercaptobenzoxazole), 5-아미노-1,3,4,시아다이아졸-2-시올(5-amino-1,3,4??thiadiazole-2-thiol), benzothiazole), 2-아미노피리미딘(2-aminopyrimidine), 5,6-디메틸벤지미다졸(5,6-dimethylbenzimidazole) 또는 2-메르캅토벤지미다졸(2-mercaptobenzimidazole)인 것을 특징으로 하는 은나노와이어를 포함하는 투명전극 코팅기판
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