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나노 기공을 함유하는 멤브레인 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2019017463
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노 기공을 갖는 멤브레인의 제조방법 및 상기 방법으로 제조된 나노 기공을 갖는 멤브레인에 관한 것이다. 본 발명에 따라 제조된 수처리용 멤브레인은 나노급 기공 구조를 가지며 내화학성과 투과유량이 우수하여, 반도체 공정의 수처리 장치를 포함한 다양한 수처리 장치에 사용할 수 있다.
Int. CL B01D 67/00 (2006.01.01) B01D 71/06 (2006.01.01) C02F 1/44 (2006.01.01) B01D 61/02 (2006.01.01)
CPC B01D 67/0002(2013.01) B01D 67/0002(2013.01) B01D 67/0002(2013.01) B01D 67/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020180024364 (2018.02.28)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0103667 (2019.09.05) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.02.28)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김인철 대전광역시 유성구
2 안은숙 대전광역시 유성구
3 이혜진 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.02.28 수리 (Accepted) 1-1-2018-0206995-93
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.08.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.10.10 수리 (Accepted) 9-1-2018-0051827-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.04.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0260525-95
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.06.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0590337-67
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.06.10 수리 (Accepted) 1-1-2019-0590336-11
7 등록결정서
Decision to grant
2019.10.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0735168-06
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번호 청구항
1 1
나일론이 용매에 용해된 고분자 용액을 준비하는 제1단계;상기 고분자 용액을 다공성 폴리올레핀 지지체에 도포하여 멤브레인 형태로 성형하는 제2단계;상기 성형된 멤브레인을 수증기에 노출시켜 상전이시키는 제3단계; 및상기 수증기에 노출된 멤브레인을 비용매에 침지시켜 나일론을 상기 다공성 폴리올레핀 지지체의 기공 내 또는 표면에 고형화하는 제4단계;를 포함하는,평균 기공 크기는 1 내지 9
2 2
제1항에 있어서, 나일론은 나일론 4,6, 나일론 6, 나일론 6,6, 나일론 6,9, 나일론 6,10, 나일론 6,12, 나일론 11, 및 나일론 12로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 나일론은 고분자 용액 총 중량 기준으로 1 내지 8중량%인, 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 용매는 포름산과 물의 혼합물인, 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 나일론과 포름산의 혼합 비율은 1 : 20 내지 1 : 40 중량비인, 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 폴리올레핀은 폴리에틸렌 또는 폴리프로필렌인, 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 다공성 폴리올레핀 지지체의 기공 크기는 0
8 8
제1항에 있어서, 제2단계의 성형은 나이프 캐스팅 또는 테이프 캐스팅으로 수행되는 것인, 제조방법
9 9
제1항에 있어서, 제3단계의 수증기는 65 내지 95%의 상대습도 조건인, 제조방법
10 10
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조되고, 평균 기공 크기는 1 내지 9
11 11
제10항의 수처리용 멤브레인을 포함하는 수처리용 장치
12 12
제11항에 있어서, 반도체 공정의 폐수처리 장치, 반도체 공정의 초순수 정제 장치, 정수기, 해수담수화 공정의 전처리 장치, 연수기, 정수처리 장치, 폐수 처리 장치 또는 식품 정제장치인, 장치
13 13
제10항의 수처리용 멤브레인을 이용하여 수처리하는 단계를 포함하는, 수처리된 물의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국화학연구원 산업핵심기술개발사업 (RCMS)초극성 복합 멤브레인 제조 기술