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제1 기공을 갖는 다공성 폴리올레핀 지지체에 나일론 함유 용액을 도포하는 제1단계;상기 지지체를 비용매에 침지하여 나일론 함유 용액을 고형화함으로써, 지지체의 표면 또는 단면에 존재하는 기공을 채우는 나일론층을 형성하는 제2단계; 및 상기 나일론층이 형성된 지지체를 다관능성 아민 함유 용액에 침지한 후 다관능성 아실 할라이드 함유 용액에 침지하여 폴리아미드층을 형성하는 제3단계;를 포함하고, 수투과유량은 15kgf/㎠에서 70 내지 120L/㎡hr이고 염 제거율은 95% 이상이며, 표면에 상기 제1 기공보다 작은 크기의 제2 기공을 갖으며,상기 나일론 함유 용액의 용매는 포름산, 또는 포름산과 물의 혼합물이고, 나일론과 포름산의 혼합 비율은 중량비로 1 : 4 내지 1 : 12 이며, 나일론은 나일론 함유 용액 총 중량 기준으로 5 내지 20중량%인,수처리용 멤브레인의 제조방법
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제1항에 있어서, 나일론은 나일론 4,6, 나일론 6, 나일론 6,6, 나일론 6,9, 나일론 6,10, 나일론 6,12, 나일론 11, 및 나일론 12로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 제조방법
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제1항에 있어서, 다공성 폴리올레핀 지지체는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 또는 이들의 조합으로 이루어진 것인, 제조방법
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제1항에 있어서, 다공성 폴리올레핀 지지체의 기공 크기는 0
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제1항에 있어서, 폴리아미드는 다관능성 아민과 다관능성 아실 할라이드의 중합 반응으로 생성된 것인, 제조방법
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제1항, 제2항 및 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 것인,제1 기공을 갖는 다공성 폴리올레핀 지지층; 지지층의 외면에 구비되어 지지층의 표면 또는 단면에 존재하는 공극을 채우는 나일론층; 및 지지층 및 나일론층을 덮도록 구비된 폴리아미드층;을 포함하고, 수투과유량은 15kgf/㎠에서 70 내지 120L/㎡hr이고 염 제거율은 95% 이상이고, 표면에 상기 제1 기공보다 작은 크기의 제2 기공을 갖는 수처리용 멤브레인
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제9항의 수처리용 멤브레인을 포함하는 수처리용 장치
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제11항에 있어서, 반도체 공정의 폐수처리 장치, 반도체 공정의 초순수 정제 장치, 정수기, 해수담수화 공정의 전처리 장치, 연수기, 정수처리 장치, 폐수 처리 장치 또는 식품 정제장치인, 수처리용 장치
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제9항의 수처리용 멤브레인을 이용하여 수처리하는 단계를 포함하는, 수처리된 물의 제조방법
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