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플렉서블(flexible) 기판;상기 플렉서블 기판 상에 소정의 간격을 두고 배열되는 복수의 발광 소자들;상기 플렉서블 기판 상에서 상기 복수의 발광 소자들을 둘러싸는 보호층;상기 복수의 발광 소자들의 상면이 노출되도록 상기 보호층의 적어도 일부를 덮는 반사층;상기 보호층과 상이한 굴절률을 갖는 물질로 이루어지며, 상기 복수의 발광 소자들의 상면 및 상기 반사층을 덮는 도파로층; 및상기 도파로층을 덮는 분산층;을 포함하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 보호층의 상면은, 상기 플렉서블 기판의 상면을 기준으로 상기 복수의 발광 소자들의 상면과 동일 평면(coplanar)을 이루는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 도파로층의 굴절률은, 상기 보호층의 굴절률보다 큰 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 분산층의 굴절률은, 상기 보호층 및 상기 도파로층 각각의 굴절률 보다 큰 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 분산층은, PDMS(polydimethylsiloxane) 및 복수의 비드들(beads)을 포함하되,상기 복수의 비드들은, 상기 분산층 내 포함 함량이 20wt% 이상 내지 70wt% 이하인 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 분산층은, 상면에 요철 구조의 미세 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 도파로층과 상기 분산층 사이에 개재되며, 상기 복수의 발광 소자들로부터 방출된 광 파장의 일부를 선택적으로 투과시키는 필터층;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제7 항에 있어서,상기 필터층은, 순차 적층된 제1 물질층, 유전체층, 및 제2 물질층을 포함하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 복수의 발광 소자는, 서로 동일한 간격을 두고 이격되도록 배열되는, 패치형 광 치료 장치
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제1 항에 있어서,상기 복수의 발광 소자 중 적어도 일부는, 서로 제1 간격을 두고 이격되도록 배열되고, 상기 복수의 발광 소자 중 다른 일부는, 상기 제1 간격과 상이한 제2 간격을 두고 서로 이격되도록 배열되는, 패치형 광 치료 장치
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플렉서블 기판 상에 소정의 간격을 두고 배열된 복수의 발광 소자들을 덮도록 예비 보호층을 형성하는 단계;상기 예비 보호층과 임시 기판을 맞대어 가압하는 단계;상기 예비 보호층을 경화시켜 보호층을 형성하는 단계;상기 보호층으로부터 상기 임시 기판을 분리하는 단계;상기 복수의 발광 소자들의 상면이 노출되도록 상기 보호층의 적어도 일부를 덮는 반사층을 형성하는 단계;상기 복수의 발광 소자들의 상면 및 상기 반사층을 덮는 도파로층을 형성하는 단계; 및상기 도파로층을 덮는 분산층을 형성하는 단계;를 포함하는, 패치형 광 치료 장치의 제조 방법
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제11 항에 있어서,상기 예비 보호층을 형성하는 단계와, 상기 예비 보호층과 상기 임시 기판을 맞대어 가압하는 단계 사이에,상기 예비 보호층과 맞닿는 상기 임시 기판의 일면을 자기조립 단분자층(self-assembled monolayers)으로 처리하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치의 제조 방법
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제11 항에 있어서,상기 예비 보호층과 임시 기판을 맞대어 가압하는 단계는,상기 예비 보호층의 상면이 상기 플렉서블 기판의 상면을 기준으로 상기 복수의 발광 소자들의 상면과 동일 평면을 이루도록 상기 예비 보호층과 상기 임시 기판을 맞대어 가압하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치의 제조 방법
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제11 항에 있어서,상기 도파로층을 형성하는 단계와 상기 분산층을 형성하는 단계 사이에,상기 도파로층을 덮는 필터층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치의 제조 방법
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제11 항에 있어서,상기 분산층을 형성하는 단계 후에,상기 분산층의 상면에 요철 구조의 미세 패턴을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 패치형 광 치료 장치의 제조 방법
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