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금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법

  • 기술번호 : KST2019017559
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속, 종이, 플라스틱, 탄소 소재와 같은 다양한 소재의 기재 상에 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막을 형성함으로써 전자파 차폐효율이 우수한 도전막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (A) 기재 표면에 금속 전구체 용액을 코팅하여 금속 전구체 코팅층을 형성하는 단계; (B) 상기 금속 전구체 코팅층을 소정시간 건조하여 용액의 과포화를 유도하는 단계; 및 (C) 상기 과포화된 금속 전구체 코팅층을 플라즈마로 처리하여 금속 클러스터 층을 형성하는 단계;를 포함하는 증착공정에 의한, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법에 관한 것이다.
Int. CL H01B 13/32 (2006.01.01) H01B 19/04 (2006.01.01) H01B 13/00 (2006.01.01) H05K 9/00 (2018.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020190096764 (2019.08.08)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0104095 (2019.09.06) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2017-0157349 (2017.11.23)
관련 출원번호 1020170157349
심사청구여부/일자 Y (2019.08.08)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최호석 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김원준 대한민국 대전광역시 서구 둔산대로***번길 **, 골드벤처타워***호 타임국제특허법률사무소 (만년동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2019.08.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0814183-10
2 보정요구서
Request for Amendment		 2019.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0134998-35
3 [출원서 등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2019.08.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-0843463-79
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2019.10.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0758102-87
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2019.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2019-1326085-10
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2020.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2020-0067121-03
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2020.02.21 수리 (Accepted) 1-1-2020-0188139-73
8 보정요구서
Request for Amendment		 2020.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0033336-64
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2020.03.23 무효 (Invalidation) 1-1-2020-0301903-13
10 [출원서 등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2020.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2020-0217320-12
11 보정요구서
Request for Amendment		 2020.03.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0049027-80
12 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2020.06.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0081033-05
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2020.10.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0730660-11
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번호 청구항
1 1
(A) 임의 재질인 기재 표면에 금속 전구체 용액을 코팅하여 금속 전구체 코팅층을 형성하는 단계;(B) 상기 금속 전구체 코팅층을 소정시간 건조하여 용액의 과포화를 유도하는 단계; 및(C) 상기 과포화된 금속 전구체 코팅층을 플라즈마로 처리하여 금속 클러스터 층을 형성하는 단계;를 포함하는, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서,상기 (A)~(C) 단계를 포함하는 공정을 3~15회 반복하는 것을 특징으로 하는, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서,상기 기재는 도체 혹은 부도체인 것을 특징으로 하는, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법
4 4
청구항 3에 있어서,상기 기재의 재질은 금속, 유리, 고분자 수지, 종이, 탄소 나노 튜브, 그래핀 및 그라파이트로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 조합인 것을 특징으로 하는, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법
5 5
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 (C) 단계의 플라즈마 처리는 상압에서 이루어지는 것을 특징으로 하는, 금속 클러스터 층으로 이루어진 도전막 제조방법
6 6
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 (A) 단계의 금속 전구체의 용액의 농도는 0
7 7
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,상기 (A) 단계에서 전구체 용액의 코팅 전, 기재의 표면을 0
8 8
청구항 1 내지 3 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 도전막을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020190059591 KR 대한민국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 (주)한국알테코 산업핵심기술개발사업 1.5g/㎤ 이하의 저비중 도전성 중공입자 제조 및 이를 이용한 70㏈급 전자파 차폐용 코팅제 개발