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반응 시편이 충진되는 밀폐 공간을 포함하는 반응챔버,상기 반응챔버 상부에 위치하고, 고온 환경을 모사하여 반응 시편을 가열하는 가열부,상기 반응챔버 하부에 위치하고, 저온 환경을 모사하여 반응 시편을 냉각하는 냉각부,상기 반응챔버의 높이 방향으로 복수개가 구비되어 반응 시편의 상태를 측정하는 센서부, 및상기 반응챔버의 하방에서 냉각부를 관통하여 반응챔버의 하부를 통하여 반응챔버 내부로 연결되고, 배경반응액에 의한 환경을 모사하여 반응 시편으로 배경반응액을 주입하는 배경반응액 주입구를 포함하고, 상기 센서부는 시편의 팽압, 상대습도 및 물함량으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상과 온도를 측정하여, 시편이 고온 및 배경반응액에 동시에 노출되는 환경을 모사하는 것을 특징으로 하는 시편의 변질 환경 모사장치
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제1항에 있어서, 상기 반응챔버의 내측 하부에 위치하고 상기 반응챔버로 연결되는 배경반응액 주입구와 연결되는 배경반응액 유도판 및 이의 상부에 위치하는 멤브레인을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모사장치
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제1항에 있어서, 상기 배경반응액 주입구와 연결되는 배경반응액 저장부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모사장치
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제3항에 있어서, 상기 모사장치는 상기 배경반응액 저장부의 상기 반응챔버에 대한 상대적 높이를 조절할 수 있는 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모사장치
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제3항에 있어서, 상기 모사장치는 상기 배경반응액 저장부와 연결되어 배경반응액이 반응챔버로 유동할 수 있도록 가압하는 가압부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 모사장치
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제1항에 있어서, 상기 반응 시편은 시멘트 또는 벤토나이트인 것을 특징으로 하는 모사장치
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반응챔버 내에 반응 시편을 충진하는 단계;반응챔버를 밀폐한 후 반응챔버 일 측면에서 반응 시편을 가열하여 고온 환경을 모사하는 단계;반응챔버를 밀폐한 후 반응챔버 타 측면에서 반응 시편을 냉각하여 저온 환경을 모사하는 단계;반응챔버의 타 측면에서 배경반응액을 주입하여 반응 시편에 대한 배경반응액에 의한 환경을 모사하는 단계; 및시편의 팽압, 상대습도 및 물함량으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상과 온도를 측정하는 센서를 통하여 시편의 상태를 측정하여, 시편이 고온 및 배경반응액에 동시에 노출되는 환경을 모사하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시편의 변질 환경 모사방법
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제8항에 있어서, 상기 반응 시편은 시멘트 또는 벤토나이트인 것을 특징으로 하는 모사방법
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제8항에 있어서, 상기 가열은 90 내지 200 ℃의 범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 모사방법
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제8항에 있어서, 상기 배경반응액을 주입하는 압력은 10 내지 30 psi인 것을 특징으로 하는 모사방법
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