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(a) 표면에 나노 구조의 패턴이 형성된 마이크로 구조의 패턴을 몰드로 사용될 금속 기재의 일면에 형성하는 단계;(b) 금속 기재의 패턴 상에 극소수성의 코팅층을 형성하는 단계;(c) 코팅층이 형성된 금속 기재의 일면에 액상의 고분자층을 도포한 후 경화하는 단계; 및(d) 일면에 경화된 고분자층이 구비된 금속 기재를 에탄올 용액에 침지시킨 후, 경화된 고분자층을 금속 기재의 일면에서 분리시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 코팅층은 자기 조립 단분자막인 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계는,a1) 물리적 처리 또는 화학적 처리를 통해 금속 기재의 일면에 마이크로 구조의 패턴을 형성하는 단계; 및a2) 형성된 마이크로 구조의 표면에 나노 구조의 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 a1) 단계는 샌드 블라스트 처리, 샌드 페이퍼 처리, 숏 블라스트 처리, 방전 처리, 레이저 처리, 플라즈마 에칭 처리, 산 에칭 처리 및 염기 에칭 처리 중 어느 하나 이상의 처리 공정을 이용하여 상기 마이크로 구조의 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 a2) 단계는 산 처리 또는 염기 처리하여 상기 나노 구조의 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 산 처리는 염산, 황산, 질산, 불산, 인산 및 아세트산로 이루어진 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상의 산 용액을 이용하여 수행되고,상기 염기 처리는 수산화나트륨, 수산화바륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화구리, 수산화암모늄, 수산화철 및 암모니아로 이루어진 그룹에서 선택되는 어느 하나의 염기 용액을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제3항에 있어서,상기 (a) 단계는 a1) 단계와 a2) 단계 사이에 금속 기재의 일면에 형성된 스멋(smut)을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 스멋(smut)을 제거하는 단계는 물, 질산 및 중플루오린화암모늄(ammonium bifluoride)을 포함하는 혼합액에 마이크로 구조의 패턴이 형성된 금속 기재의 일면을 침지시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 액상의 고분자는 톨루엔 및 고분자가 혼합된 용액인 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계는 액상의 고분자를 도포한 후 도포된 상태를 진공에서 일정 시간 동안 유지하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계는 70ºC 이상에서 5시간 이상 열처리하여 액상의 고분자를 경화하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 고분자 필름은 폴리아미드(polyamide, PA), 폴리카보네이트(polycarbonate, PC), 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리에틸렌(polyethylene, PE), 폴리에테르케톤(polyetherketone, PEK), 폴리에틸렌나프탈레이트(polyethylenenaphthalate, PEN), 폴리에테르술폰(polyehtersulfone, PES), 폴리이미드(polyimide, PI), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate, PET), 폴리비닐아세탈(polyvinylacetal), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmethacrylate, PMMA), 폴리올레핀(polyolefin, PO), 폴리프로필렌(polypropylene, PP), 폴리스티렌(Polystyrene, PS), 폴리우레탄(polyurethane, PU), 폴리염화비닐(Polyvinyl chloride, PVC), 아크릴로나이트릴(acrylonitrile butadiene styrene, ABS), 아세틸셀룰로오스(acetyl cellulose), 에틸렌비닐아세테이트(Ethylene vinyl acetate, EVA), 니트로셀룰로오스(nitrocellulose), 트리아세틸셀룰로오스(triacetylcellulose, TAC)로 이루어진 그룹에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 필름의 제조 방법
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제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 고분자 필름의 제조 방법을 이용하여 제조된 고분자 필름으로서,표면에 나노 구조의 패턴이 형성된 마이크로 구조의 패턴을 그 일면에 구비한 것을 특징으로 하는 고분자 필름
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제13항에 있어서,전자 장치의 투명 보호층으로 활용되거나, 태양 전지의 반사 방지층으로 활용되는 것을 특징으로 하는 고분자 필름
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