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(a) 모 기판 상에 플렉서블 디스플레이용 기판을 형성하는 단계;(b) 상기 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면에 이온빔을 조사하여, 상기 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면에 친수성을 부여하는 표면 처리 단계; 및(c) 상기 플렉서블 디스플레이용 기판의 벤딩에 대한 신뢰성을 확보하기 위해, 상기 표면 처리된 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면에 무기물질을 증착하여 버퍼층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 버퍼층과 접촉하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면이 친수성을 갖는 계면 상태를 유지하면서, 상기 버퍼층이 균일하게 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서 친수성이 부여된 플렉서블 디스플레이용 기판은 표면 접촉각이 53˚이하가 되도록 표면 처리되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 플렉서블 디스플레이용 기판은 폴리이미드 계열의 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 이온빔은 75초~300초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 이온빔은 0
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제1항에 있어서,상기 이온빔은 10~50sccm의 아르곤 이온빔 및 10~50sccm의 산소 이온빔 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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제1항에 있어서,상기 버퍼층은 SiO2, SiO2-x, SiN, SiNx, a-Si(amorphous silicon), Al2O3, Al2O3-x, AlN 및 AlNx 중 1종 이상을 포함하는 단층 또는 다층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 디스플레이용 기판의 표면 처리방법
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