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보호층을 이용한 패터닝 방법, 및 이를 이용한 소자 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019018213
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 패터닝 방법은 기판에 패터닝 대상 소재를 배치하는 단계, 섀도우 마스크를 배치하는 단계, 및 건식 식각 공정을 수행하는 단계를 포함하여 이루어진다. 특히 패터닝 대상 소재와 섀도우 마스크의 사이에는 보호층이 형성된다. 건식 식각 공정에 고분자 보호층을 적용함으로써, 식각 공정 중에 소재를 보호해 줄뿐 아니라, 섀도우 마스크와 소재 사이의 틈을 최소화시켜 과도한 식각을 방지할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01) H01L 21/033 (2006.01.01) H01L 21/3065 (2006.01.01) H01L 21/3213 (2006.01.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020180028568 (2018.03.12)
출원인 한국표준과학연구원
등록번호/일자 10-2102308-0000 (2020.04.13)
공개번호/일자 10-2019-0107379 (2019.09.20) 문서열기
공고번호/일자 (20200420) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.03.12)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대한민국 대전 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강상우 대전광역시 서구
2 문지훈 대전시 유성구
3 박혜지 광주광역시 북구
4 전소연 대구광역시 수성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영호 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길* (역삼동, 조이타워), ***호(대신특허사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국표준과학연구원 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.03.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0244775-35
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266645-00
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266627-88
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.27 수리 (Accepted) 4-1-2018-5266640-72
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2019-0347035-40
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.09.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0101651-78
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0670473-69
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2019-1045729-46
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1045728-01
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.03.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0165109-77
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.03.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0318013-91
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2020-0318012-45
14 등록결정서
Decision to grant
2020.04.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0239993-69
15 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2020.11.04 수리 (Accepted) 1-1-2020-1174838-20
16 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2020.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2020-1189841-19
17 보정요구서
Request for Amendment
2020.11.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2020-0165903-59
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번호 청구항
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패터닝을 이용한 소자 제조 방법에 있어서,패터닝 대상 소재 위에 보호층을 형성하고, 상기 보호층 위에 섀도우 마스크를 고정하는 단계;패터닝을 위한 건식 식각 공정을 진행하는 단계;상기 건식 식각 공정 후 상기 보호층을 제거하는 단계; 및패터닝된 박막에 전극을 증착하는 단계를 포함하고,상기 보호층은 고분자 소재로 구성되어 상기 섀도우 마스크를 통해 가려진 영역의 식각을 방지하며,상기 섀도우 마스크는 패턴이 형성된 금속 재질의 판으로 이루어진 스텐실 마스크이고,상기 고분자 소재는 PVP(Polyvinylpyrrolidone)를 포함하며, 상기 섀도우 마스크의 고정은 기판이 부착된 홀더를 통해 이루어지고,상기 보호층을 제거하는 단계는 고분자를 녹일 수 있는 유기용매를 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 패터닝을 이용한 소자 제조 방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국표준과학연구원 국가연구개발사업 3-3-2 차세대초박막공정용측정기술개발
2 산업통상자원부 한국표준과학연구원 소재부품기술개발사업 2차원 혼성박막을 응용한 스트레인/압력 멀티센서 개발