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다음 단계를 포함하는 소프트리소그래피(softlithography)를 이용한 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법:(a) 일정한 간격을 유지하는 상부 기판과 하부 기판 사이에 액정분자의 등방성 온도에서 액정분자를 주입하는 단계;(b) 상기 상부 기판 위에 소정의 격벽 구조를 가진 고분자 몰드를 올려 놓은 다음, 열을 가하여 하부 기판에 격벽 구조를 전사시키는 단계; 및(c) 액정분자를 냉각시켜 상전이를 발생시켜 원뿔구조(focal conic domain, FCD)의 결함구조 어레이가 대면적으로 나타나는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체를 제조하는 단계
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제1항에 있어서, 상기 하부 기판이 홈이 형성되어 있지 않은 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 상부 기판 및 고분자 몰드와 같은 방향의 홈이 상기 하부 기판에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 상부 기판 및 고분자 몰드와 수직인 방향의 홈이 상기 하부 기판에 형성된 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 고분자 몰드는 실리콘으로 제작된 마이크로 채널을 주형으로 사용하여 제조된 다공성 고분자 물질인 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 고분자 몰드는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)인 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계 이전에 하부 기판을 친분자성 고분자막으로 코팅하는 단계를 추가로 포함하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 코팅 단계 이후에 러빙하는 공정을 추가로 포함하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계의 상부 기판 위에 소정의 격벽 구조를 가진 고분자 몰드를 올려 놓은 다음, 상기 상부 기판을 소분자성 고분자막으로 코팅하는 단계를 추가로 포함하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 액정분자는 화학식 1로 표현되는 4'-n-옥틸-4-시아노-바이페닐(4'-n-octyl-4-cyano-biphenyl)인 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 냉각시켜 액정분자의 네마틱상과 스멕틱상으로의 상전이를 발생하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 상기 상부 기판 위에 소정의 격벽 구조를 가진 고분자 몰드를 올려놓은 다음, 열을 가하여 용매 및 고분자 몰드를 제거한 후에 150~200℃의 온도에서 1
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제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되고, 원뿔구조(focal conic domain, FCD)의 결함구조 어레이가 대면적으로 나타나는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체
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제13항에 있어서, 상기 결함구조의 너비는 10~15㎛이고, 깊이는 100~300nm인 함몰된 지형학적 특성을 가진 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체
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제2항의 방법에 의해 제조되고, 측벽에는 브러쉬 텍스처가 하부 기판 중에는 TFCD 어레이가 각각 발현되는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체
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제3항의 방법에 의해 제조되고, 측벽에는 브러쉬 텍스처가 하부 기판 중에는 FCD 어레이가 각각 발현되는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체
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제4항의 방법에 의해 제조되고, FCD 결함이 번갈아 형성된 지그재그 패턴이 발현되는 것을 특징으로 하는 액정 배향제어 광학 구조체
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