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기판 상에 증착 공정이 수행되는 반응 챔버; 상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지를 포함하는 플레이트, 상기 플레이트를 지지하는 플레이트봉, 및 상기 기판 스테이지 상에 배치되는 기판을 가열하는 가열부,를 포함하는 플레이트부; 및 상기 기판 스테이지에 의해 지지된 기판을 열처리하는 공정이 수행되는 열처리 챔버;를 포함하고,상기 가열부는 상기 플레이트봉의 내부 또는 외부를 따라 연장되어 배치되며,상기 플레이트봉은 상기 기판 스테이지에 의해 지지된 상기 기판을 상기 열처리 챔버로 이동시키는 이동부재를 포함하고,상기 플레이트봉에 연결되어 상기 플레이트를 회전시키는 모터부를 더 포함하며,상기 열처리 챔버는 내부에 상기 기판을 배치하여 열처리 공정을 수행하는 공간을 제공하는 관, 상기 기판을 가열하기 위한 가열 부재, 및 열처리 공정에 의해 발생한 가스 및 열을 제거하기 위한 배기구를 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 원료 공급부는,상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 원료 공급관, 상기 원료 공급관을 통해 공급되는 원료를 저장하는 저장부, 및 상기 저장부로부터 원료가 공급되는 것을 차단하는 차단부,를 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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기판 상에 증착 공정이 수행되는 반응 챔버; 상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지를 포함하는 플레이트, 상기 플레이트를 지지하는 플레이트봉, 및 상기 기판 스테이지 상에 배치되는 기판을 가열하는 가열부,를 포함하는 플레이트부; 및 상기 기판 스테이지에 의해 지지된 기판을 열처리하는 공정이 수행되는 열처리 챔버;를 포함하고, 상기 가열부는 상기 플레이트봉의 내부 또는 외부를 따라 연장되어 배치되며,상기 플레이트봉은 상기 기판 스테이지에 의해 지지된 상기 기판을 상기 열처리 챔버로 이동시키는 이동부재를 포함하고,상기 플레이트봉에 연결되어 상기 플레이트를 회전시키는 모터부를 더 포함하며,상기 열처리 챔버는 내부에 상기 기판을 배치하여 열처리 공정을 수행하는 공간을 제공하는 관, 상기 기판을 가열하기 위한 가열 부재, 및 열처리 공정에 의해 발생한 가스 및 열을 제거하기 위한 배기구를 포함하는, 네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법에 있어서,상기 기판 스테이지에 기판을 배치하는 단계;상기 가열부를 이용하여 기판을 가열하는 단계;상기 반응 챔버 내에서 상기 기판 상에 원료를 증착하는 단계;상기 열처리 챔버를 이용하여 상기 원료가 증착된 기판을 열처리하는 단계;를 포함하는, 네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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제6항에 있어서,상기 반응 챔버 내에서 상기 기판 상에 원료를 증착하는 단계는, 상기 원료 공급부의 네블라이저를 이용하여 상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 단계, 및 상기 플레이트를 회전하는 단계,를 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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제6항에 있어서,상기 반응 챔버 내에서 상기 기판 상에 원료를 증착하는 단계 이후에,상기 플레이트를 상기 열처리 챔버로 이동하는 단계를 더 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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