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기판 상에 증착 공정이 수행되고, 기판이 내부 및 외부로 이동하는 출입구를 포함하는 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버; 상기 제1 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 제1 원료 공급부; 상기 제2 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 제2 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지, 및 상기 기판 스테이지를 지지하고 상기 기판 스테이지를 상기 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버 내부로 이동하는 플레이트봉을 포함하는 플레이트부; 및 상기 플레이트부의 일단에 연결되고, 상기 기판 스테이지를 상기 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버의 내부로 이동하도록 하기 위해 상기 플레이트부를 이동하는 플레이트 레일부;를 포함하고,상기 플레이트부가 상기 플레이트 레일부에 의해 이동하는 것에 따른 상기 기판 스테이지의 이동경로를 따라 배치되어, 상기 기판 스테이지의 이동을 가이드하는 공정 레일부를 더 포함하며, 상기 플레이트 레일부는 상기 플레이트부가 이동하는 경로를 제공하는 가이드 레일 부재, 상기 플레이트부가 이동하도록 구동력을 제공하는 이동 부재, 및 상기 플레이트부를 정지하도록 하는 브레이크 부재를 포함하고,상기 기판 스테이지가 상기 공정 레일부를 따라 이동하는 경로를 제공하기 위한 둔턱을 포함하며, 상기 공정 레일부는 상기 제1 반응 챔버 및 상기 제2 반응 챔버의 출입구에 대응하는 홈을 포함하여, 상기 기판 스테이지가 상기 공정 레일부의 상기 홈을 따라 상기 제1 반응 챔버 및 상기 제2 반응 챔버의 내부로 안정적으로 이동할 수 있는 경로를 제공하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 플레이트봉은 상기 기판 스테이지를 가열하는 가열부를 더 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 플레이트봉은 상기 기판 스테이지를 상기 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버의 내부 및 외부로 이동하도록 길이가 연장 또는 단축되는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제3항에 있어서,상기 가열부는 상기 기판 스테이지에서 기판이 배치되는 면에 대향하는 면에 배치되는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 제1 원료 공급부 및 제2 원료 공급부는, 각각 상기 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 원료 공급관, 상기 원료 공급관을 통해 공급되는 원료를 저장하는 저장부, 및 상기 저장부로부터 원료가 공급되는 것을 차단하는 차단부,를 포함하는네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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기판 상에 증착 공정이 수행되고, 기판이 내부 및 외부로 이동하는 출입구를포함하는 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버; 상기 제1 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 제1 원료 공급부; 상기 제2 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 네블라이저를 포함하는 제2 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지, 및 상기 기판 스테이지를 지지하는 플레이트봉,을 포함하는 플레이트부; 및 상기 플레이트부의 일단에 연결되고, 상기 기판 스테이지를 상기 제1 반응 챔버 및 제2 반응 챔버의 내부로 이동하도록 하기 위해 상기 플레이트부를 이동하는 플레이트 레일부;를 포함하고, 상기 플레이트부가 상기 플레이트 레일부에 의해 이동하는 것에 따른 상기 기판 스테이지의 이동경로를 따라 배치되어, 상기 기판 스테이지의 이동을 가이드하는 공정 레일부를 더 포함하며, 상기 플레이트 레일부는 상기 플레이트부가 이동하는 경로를 제공하는 가이드 레일 부재, 상기 플레이트부가 이동하도록 구동력을 제공하는 이동 부재, 및 상기 플레이트부를 정지하도록 하는 브레이크 부재를 포함하고,상기 기판 스테이지가 상기 공정 레일부를 따라 이동하는 경로를 제공하기 위한 둔턱을 포함하며, 상기 공정 레일부는 상기 제1 반응 챔버 및 상기 제2 반응 챔버의 출입구에 대응하는 홈을 포함하여, 상기 기판 스테이지가 상기 공정 레일부의 상기 홈을 따라 상기 제1 반응 챔버 및 상기 제2 반응 챔버의 내부로 안정적으로 이동할 수 있는 경로를 제공하는, 네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법에 있어서,상기 기판 스테이지에 기판을 배치하는 단계;상기 플레이트봉을 이용하여 상기 제1 반응 챔버 내부로 상기 기판을 이동하여 상기 기판 상에 원료를 증착하는 단계; 및상기 플레이트봉을 이용하여 상기 제1 반응 챔버 외부로 상기 기판을 이동하고, 상기 플레이트 레일부를 이용하여 상기 플레이트부를 상기 제2 반응 챔버 쪽으로 이동하고, 상기 플레이트봉을 이용하여 상기 제2 반응 챔버 내부로 상기 기판을 이동하여 상기 기판 상에 원료를 증착하는 단계;를 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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제7항에 있어서,상기 플레이트봉은 상기 기판 스테이지를 가열하는 가열부를 더 포함하고,상기 기판 스테이지에 기판을 배치하는 단계 이후에, 상기 가열부를 이용하여 기판을 가열하는 단계를 더 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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