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기판 상에 증착 공정이 수행되는 반응 챔버;상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하고 네블라이저를 포함하는 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지, 및 상기 기판 스테이지를 지지하고 상기 기판 스테이지의 위치를 이동시키는 플레이트봉,을 포함하는 플레이트부; 및상기 플레이트부의 일단에 연결되고, 상기 플레이트부를 상하 및 좌우로 이동시키는 레일부;를 포함하고,상기 레일부는 상기 플레이트부가 이동하는 경로를 제공하는 레일, 상기 플레이트부에 구동력을 제공하는 구동부재, 및 상기 플레이트부를 정지하도록 하는 브레이크 부재를 포함하며,상기 반응 챔버에 결합하여, 상기 반응 챔버 내부의 기판을 가열하는 마이크로파 발생장치, 및 상기 반응 챔버 내부로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지가스 공급부를 포함하는 네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 플레이트봉은 길이가 연장 또는 단축됨으로써 상기 기판 스테이지의 위치를 이동하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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제1항에 있어서,상기 원료 공급부는, 상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하는 원료 공급관, 상기 원료 공급관을 통해 공급되는 원료를 저장하는 저장부, 및 상기 저장부로부터 원료가 공급되는 것을 차단하는 차단부,를 포함하는네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치
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기판 상에 증착 공정이 수행되는 반응 챔버; 상기 반응 챔버 내로 원료를 공급하고 네블라이저를 포함하는 원료 공급부; 기판을 지지하는 기판 스테이지, 및 상기 기판 스테이지를 지지하고 상기 기판 스테이지의 위치를 이동시키는 플레이트봉,을 포함하는 플레이트부; 및 상기 플레이트부의 일단에 연결되고, 상기 플레이트부를 상하 및 좌우로 이동시키는 레일부;를 포함하고,상기 레일부는 상기 플레이트부가 이동하는 경로를 제공하는 레일, 상기 플레이트부에 구동력을 제공하는 구동부재, 및 상기 플레이트부를 정지하도록 하는 브레이크 부재를 포함하며,상기 반응 챔버에 결합하여, 상기 반응 챔버 내부의 기판을 가열하는 마이크로파 발생장치, 및 상기 반응 챔버 내부로 퍼지 가스를 공급하는 퍼지가스 공급부를 포함하는, 네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법에 있어서,상기 기판 스테이지에 기판을 배치하는 단계;기판 상에 증착하고자 하는 박막의 종류를 고려하여 상기 레일부를 이용하여 상기 플레이트부를 이동하는 단계;상기 플레이트봉을 이용하여 상기 기판 스테이지를 이동하는 단계; 및상기 원료 공급부에서 원료를 공급하여 상기 기판 스테이지 상에 배치된 기판에 박막을 증착하는 단계;를 포함하는네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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제6항에 있어서,상기 기판 스테이지에 기판을 배치하는 단계 이후에, 상기 기판을 가열하는 단계를 더 포함하는,네블라이저를 포함하는 박막 증착 장치를 이용한 박막 증착 방법
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