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기재, 상기 기재 일면의 적어도 일부에 배치된 그래핀 패턴 및 상기 기재 일면의 적어도 일부에 배치되며 상기 그래핀 패턴을 덮는 금속막을 포함하며,상기 금속막은 금속 고유의 적외선 방사도가 측정되는 최소 두께 미만의 두께를 갖고,상기 금속막은 하측의 그래핀 패턴의 존부에 따라 상이한 적외선 방사도를 갖는 위조방지필름
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청구항 1에 있어서, 상기 그래핀은 그래핀, 산화그래핀 및 환원된 산화그래핀 중 적어도 하나인, 위조방지필름
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청구항 1에 있어서, 상기 그래핀 패턴의 두께는 0
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청구항 1에 있어서, 상기 금속은 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 코발트(Co), 루테늄(Ru), 파라듐(Pd), 크롬(Cr), 망간(Mn), 금(Au), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 로듐(Rh), 탄탈륨(Ta), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 이리듐(Ir), 황동(brass), 청동(bronze), 스테인레스 스틸(stainless steel) 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 위조방지필름
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청구항 1에 있어서, 상기 금속막의 두께는 1nm 내지 100 nm 인, 위조방지필름
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삭제
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기재 일면의 적어도 일부에 그래핀 패턴을 형성하는 단계, 및상기 기재 상에 상기 그래핀 패턴을 덮는 금속막을 형성하는 단계를 포함하며,상기 금속막은 금속 고유의 적외선 방사도가 측정되는 최소 두께 미만의 두께를 갖는 적외선 방사도 조절 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 그래핀은 그래핀, 산화그래핀 및 환원된 산화그래핀 중 적어도 하나인, 적외선 방사도 조절 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 그래핀 패턴의 두께는 0
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청구항 7에 있어서, 상기 금속은 구리(Cu), 니켈(Ni), 철(Fe), 백금(Pt), 알루미늄(Al), 코발트(Co), 루테늄(Ru), 파라듐(Pd), 크롬(Cr), 망간(Mn), 금(Au), 은(Ag), 몰리브덴(Mo), 로듐(Rh), 탄탈륨(Ta), 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 우라늄(U), 바나듐(V), 지르코늄(Zr), 이리듐(Ir), 황동(brass), 청동(bronze), 스테인레스 스틸(stainless steel) 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 적외선 방사도 조절 방법
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청구항 7에 있어서, 상기 금속막의 두께는 1nm 내지 100 nm인, 적외선 방사도 조절 방법
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