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내부에 300 내지 600 μm의 평균 직경을 갖는 기공이 형성된 고분자 재질의 매트릭스; 및상기 매트릭스에 분산된 금속 나노입자를 포함하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체
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제1항에 있어서,상기 고분자는 폴리다이메틸실록산 (PDMS: Polydimethylsiloxane), 폴리우레탄 아크릴레이트 (PUA: Polyurethane acrylate), 퍼플루오르폴리에터 (PFPE: Perfluoropolyether), 폴리에스테르 아크릴레이트 (Polyester acrylate), 폴리카프로락톤 (PCL: Polycaprolactone), 폴리락트산 (PLA: Polylactic acid), 에틸셀룰로스 (EC: Ethylcellulose), 폴리스티렌 (PS: Polystyrene), 폴리테트라 플루오로에틸렌 (PTFE: Polytetrafluoroethylene), 폴리프로필렌-에폭시(PP-epoxy) 및 폴리 알콕시실란 오르가노겔(Poly(alkoxysilane) organogels)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체
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수용해성 물질로 이루어지는 디스크 형태의 주형(template)을 준비하는 단계;고분자 물질을 포함하는 제1 용액 및 금속이온을 포함하는 제2 용액의 혼합용액에, 상기 주형을 침지하여 주형 내 혼합용액를 흡수시키는 단계;주형에 흡수된 혼합용액의 고분자 물질을 경화시키는 단계; 및수용해성 물질을 제거하는 단계;를 포함하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 수용해성 물질은 설탕 또는 소금인 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 고분자 물질을 포함하는 제1 용액은 경화제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 고분자 물질과 경화제는 5 내지 10:1의 중량 비율로 제1 용액에 포함되는 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,금속이온을 포함하는 제2 용액의 금속이온 농도는 1 내지 10 mM인 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 경화는 혼합용액이 흡수된 주형을 40 내지 90℃로 열처리하여 수행되는 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,주형에 흡수된 혼합용액의 고분자 물질을 경화시키는 단계에서,금속이온은, 상기 경화되는 고분자 내에 금속 나노입자 형태로 환원되는 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 수용해성 물질의 제거는,경화된 고분자 물질을 포함하는 주형을 물에 침지하여, 수용해성 물질을 물에 용해시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는, 표면증강라만 분석용 광학 구조체의 제조방법
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제1항의 표면증강라만 분석용 광학 구조체에 분석 시료를 담지하는 단계; 및레이저 광을 조사하는 단계;를 포함하는, 분석 시료 내 분석대상물질의 존재 여부를 판단하기 위한 검출방법
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제12항에 있어서,상기 레이저 광은 400 내지 800 nm의 파장을 갖는 것을 특징으로 하는, 분석 시료 내 분석대상물질의 존재 여부를 판단하기 위한 검출방법
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