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파우더 공급부;상기 파우더 공급부에서 공급된 파우더를 신체 피부에 분사하는 메인 튜브; 및소스가스를 여기시켜 플라스마를 생성하고, 상기 플라스마를 상기 신체 피부에 도포된 상기 파우더에 분사하는 플라스마 발생부를 포함하되,상기 플라스마의 분사로 상기 신체 피부에 도포된 상기 파우더의 표면이 대전되는 플라스마 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 파우더의 표면에는1eV이하의 저에너지 전자 구름이 형성되는 플라스마 발생 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라스마 발생부는,내측에 상기 소스가스가 이동하는 유로가 형성된 유전체 튜브; 및상기 유전체 튜브의 내측면과 외측면에 각각 제공되는 한 쌍의 전극을 포함하고,상기 유전체 튜브는 상기 메인 튜브의 외측에서 상기 메인 튜브와 나란하게 배치되는 플라스마 발생 장치
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제 5 항에 있어서,상기 메인 튜브는 상기 파우더가 토출되는 파우더 토출구를 갖고,상기 유전체 튜브는 상기 플라스마가 토출되는 플라스마 토출구를 가지며,상기 파우더 토출구는 상기 플라스마 토출구의 일측에 위치하는 플라스마 발생 장치
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제 1 항, 제2항, 제5항, 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 파우더의 직경은 0
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제 1 항, 제2항, 제5항, 제6항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 파우더는 금속 산화물 또는 탄소와 산소를 포함하는 분자량 50 내지 10,000의 고분자로 이루어진 플라스마 발생장치
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