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내부에 크립톤을 흡착하는 흡착제가 수용된 포집 컬럼을 적어도 2개 이상 포함하는 포집부;상기 포집 컬럼에 연결되어 각각의 포집 컬럼으로 공기가 유입 및 유출되도록 조절하는 멀티 밸브부; 및일정한 주기로 공기가 유입 및 유출되는 포집 컬럼이 달라지도록 상기 멀티 밸브부를 제어하는 제어부를 포함하며,상기 주기가 72시간 이하이고,상기 포집 컬럼이 0℃ 이상의 온도를 유지하도록 구성되며,상기 포집 컬럼은,상기 포집 컬럼 내로 공기를 유입시키는 유입구;상기 포집 컬럼으로부터 공기를 배출하는 유출구; 상기 유입구를 통해 유입된 공기가 상기 포집 컬럼의 하단부로 배출될 수 있도록 하는 유입관;상기 포집 컬럼의 상단부에 배치되고, 흡착제를 통과한 공기를 배출하기 위한 다수의 홀(hole)을 포함하는 상부 플레이트(plate);상기 유입관의 공기 배출구 상단에 배치되고, 그 내부에 공기가 통과할 수 있는 유로가 형성되어 있는 하부 플레이트; 및상기 포집 컬럼 내부의 공기 와류를 형성하기 위한 교반 부재;를 포함하고,상기 상부 플레이트 및 하부 플레이트는 구리로 이루어진 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 흡착제는 활성탄, 제올라이트, 활성 알루미나 및 금속-유기 골격체(Metal-organic framework, MOF)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 흡착제가 상기 포집 컬럼 전체 부피를 기준으로 60부피% 이상으로 충진되어 있는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 교반 부재는 상기 교반 부재가 설치된 영역과 상기 흡착제가 충진된 영역이 적어도 일부 중첩되도록 상기 포집 컬럼 내에 구비되는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 교반 부재는 상기 상부 플레이트와 포집 컬럼 하단부 사이에 구비되는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 교반 부재는 상기 유입관의 외측을 따라 일정한 간격으로 설치되는 배플(baffle)인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서, 상기 교반 부재는 상기 유입관의 외측을 따라 설치되는 나선형 교반 부재인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 포집 컬럼은 하단부에 경사면이 형성된 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 크립톤 포집 장치는 포집 컬럼의 온도를 조절하기 위한 온도 조절기를 더 포함하는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서, 상기 제어부는 하나의 포집 컬럼에 12시간 내지 24시간 주기로 공기가 유입 및 유출되도록 상기 멀티 밸브부를 제어하는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 하나의 포집 주기 동안 5m3 이상의 공기가 포집 컬럼 내에 유입될 수 있도록 공기 유량을 제어하는 것인 크립톤 포집 장치
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제1항에 있어서,상기 크립톤 포집 장치는 공기 중의 불순물, 이산화탄소 및 수분 중 적어도 하나 이상을 제거하기 위한 전처리부를 더 포함하는 것인 크립톤 포집 장치
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제17항에 있어서,상기 전처리부는 수분 응결기를 포함하는 것인 크립톤 포집 장치
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청구항 1의 방사성 크립톤 포집 장치를 이용한 크립톤 포집 방법으로,상기 멀티 밸브부로 공기를 유입시키는 단계; 및상기 멀티 밸브부로 유입된 공기를 상기 포집 컬럼으로 공급하되, 상기 제어부를 통해 일정한 주기로 공기가 공급되는 포집 컬럼이 달라지도록 상기 멀티 밸브부를 제어하는 단계를 포함하며, 상기 주기가 72시간 이하인 크립톤 포집 방법
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