맞춤기술찾기

이전대상기술

전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정방법

  • 기술번호 : KST2019019485
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전자회로기판 검사장치에서 형상측정을 위해 광학계의 초점높이를 결정하는 방법에 있어서, 자동초점 기능을 이용하여 검사장치에 고정된 전자회로기판 검사를 N회 수행하는 단계, N개의 전자회로기판 검사에서 결정된 초점높이 값들에 기초하여 검사위치별로 제 1 초점높이 대푯값을 획득하는 단계 및 상기 N회 이후의 전자회로기판 검사에서, 상기 획득된 검사위치별 제 1 초점높이 대푯값에 기초하여, 상기 광학계를 결정된 검사위치로 이동시켜 전자회로기판 검사를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 실질적으로 자동초점 설정을 위한 동작을 생략할 수 있어 전자회로기판의 검사속도를 현저하게 향상시킬 수 있고, 그에 따라 반도체 제조 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Int. CL G01B 9/02 (2006.01.01) G01B 11/24 (2006.01.01) G02B 7/28 (2006.01.01)
CPC G01B 9/02042(2013.01) G01B 9/02042(2013.01) G01B 9/02042(2013.01)
출원번호/일자 1020180062853 (2018.05.31)
출원인 주식회사 미르기술, 선문대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2030685-0000 (2019.10.02)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20191010) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.31)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 미르기술 대한민국 경기도 군포시 고산로 ***, 제*
2 선문대학교 산학협력단 대한민국 충청남도 아산시

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박찬화 경기도 용인시 수지구
2 박윤창 충청남도 천안시 서북구
3 황석태 경기도 용인시 기흥구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인성암 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동, 현죽빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 미르기술 경기도 군포시 고산로 ***, 제*
2 선문대학교 산학협력단 충청남도 아산시
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-0538184-24
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.09.06 수리 (Accepted) 9-1-2018-0046934-63
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.01.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0025077-30
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.02.18 수리 (Accepted) 4-1-2019-5030972-36
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2019-0245427-75
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2019.04.05 수리 (Accepted) 1-1-2019-0353773-13
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2019-0358025-41
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0475765-75
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.05.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0475766-10
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.26 수리 (Accepted) 4-1-2019-5169188-72
12 등록결정서
Decision to grant
2019.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0700052-00
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2020-5136355-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용하여 초점높이를 결정하는 방법에 있어서,제 1 전자회로기판의 휨 상태를 검출하여 광학계의 초점높이를 결정한 후, 결정된 초점높이로 광학계를 이동시켜 상기 제 1 전자회로기판을 검사하는 제 1 단계;상기 검사에서 검출된 상기 제 1 전자회로기판의 휨 상태정보에 기초하여 다음 검사대상인 제 2 전자회로기판의 처짐량을 예측하는 제 2 단계;상기 예측된 처짐량 정보에 기초하여 제 2 전자회로기판의 각 검사위치에서 광학계의 초점높이를 결정한 후, 결정된 초점높이로 광학계를 이동시켜 상기 제 2 전자회로기판을 검사하는 제 3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하되,상기 광학계는 백색광을 발생시키도록 구성된 백색광원, 백색광을 시준하는 시준 렌즈, 시준된 빛을 물체 빔과 기준 빔으로 분리하는 빔 스플리터, 물체 빔을 전자회로기판으로 집속하는 대물 렌즈, 기준 빔을 반사하는 반사 거울 및 물체 빔과 기준 빔으로부터 반사된 빛이 포획되어 상기 빔 스플리터에서 재결되면 그 영상을 촬영하는 카메라를 포함하는 전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 제 2 전자회로기판을 검사하는 단계에서 계측 결과에 오류가 발생한 경우 해당 위치에서 상기 제 1 단계 및 제 2 단계를 재수행하는 것을 특징으로 하는 전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정 방법
3 3
제1항 또는 2항에 있어서,상기 검사에서 검출된 상기 제 2 전자회로기판의 휨 상태정보에 기초하여 다음 검사대상인 제 3 전자회로기판의 처짐량을 예측하는 제 4 단계;상기 예측된 처짐량 정보에 기초하여 제 3 전자회로기판의 각 검사위치에서 광학계의 초점높이를 결정한 후, 결정된 초점높이로 광학계를 이동시켜 상기 제 3 전자회로기판을 검사하는 제 5 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정 방법
4 4
제1항 또는 2항에 있어서,상기 전자회로기판 검사를 위한 장치는 전자회로기판의 처짐량을 측정하기 위한 모아레 간섭 모듈과, 상기 모아레 간섭 모듈에서 측정된 기판의 처짐량 정보에 기초하여 광학계의 초점높이를 결정하여 전자회로기판 표면의 검사를 수행하는 백색광 간섭계 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 전자회로기판 검사에서 처짐량 예측을 이용한 초점높이 결정 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 주식회사 미르기술 산업핵심기술개발사업 대면적 복합 적층형 Sip(System in Package) 공정 검사 장비 개발