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단일 광자의 상태를 기초로 큐빗의 초기 양자상태가 설정되면, 상기 큐빗의 양자상태의 제1 관측량을 측정하는 제1 측정부; 상기 제1 관측량이 측정된 후 양자 프로세스가 적용된 상기 큐빗의 양자상태의 제2 관측량을 측정하는 제2 측정부; 및상기 제1 및 제2 관측량을 기초로 상기 양자 프로세스의 구성요소를 측정하는 제어부를 포함하되, 상기 제1 측정부에서 상기 제1 관측량을 측정하기 위하여 수행되는 제1 측정연산 및 상기 제2 측정부에서 상기 제2 관측량을 측정하기 위하여 수행되는 제2 측정연산은 비가환 관계인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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제1항에 있어서, 상기 큐빗은, 시스템 큐빗, 보조 큐빗, 및 미터 큐빗을 포함하고,상기 초기 양자상태는 상기 시스템큐빗, 보조 큐빗, 및 미터 큐빗의 곱 상태인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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제2항에 있어서, 상기 제1 측정부는,상기 시스템 큐빗과 상기 보조 큐빗의 상호작용에 의해 상기 시스템 큐빗의 제1 관측량을 측정하되, 상기 시스템 큐빗과 상기 보조 큐빗간의 CNOT 유형의 상호작용이 적용되는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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4
제3항에 있어서,상기 제1 관측량이 측정된 후의 큐빗의 양자상태를 변환시키기 위하여 상기 큐빗에 상기 양자 프로세스를 적용시키는 양자 처리부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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5
제4항에 있어서, 상기 제2 측정부는,상기 양자 프로세스가 적용되어 양자상태가 변환된 큐빗에 대하여, 시스템 큐빗 및 보조 큐빗을 상기 미터 큐빗과 상호작용하게 하여 상기 시스템 큐빗의 제2 관측량을 측정하되, 상기 시스템 큐빗과 보조 큐빗은 상기 미터 큐빗에 대하여 회전 연산되고, 상기 제2 관측량을 측정하기 위한 측정세기는 기설정된 기준세기 미만인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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6
제5항에 있어서, 상기 보조 큐빗에는 상기 제1 관측량이 기록되고, 상기 미터 큐빗에는 상기 제1 및 제2 관측량이 기록되는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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7
제6항에 있어서,상기 시스템 큐빗 및 보조 큐빗을 특정 양자 상태로 투영시키는 후처리부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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8
제7항에 있어서,상기 시스템 큐빗 및 보조 큐빗이 특정 양자 상태로 투영된 후, 상기 제1 및 제2 관측량을 기록하고 있는 미터 큐빗에 대한 기대값을 산출하여, 상기 미터 큐빗으로부터 상기 제1 및 제2 관측량을 추출하는 추출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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9
제8항에 있어서, 상기 제어부는,상기 제1 및 제2 관측량, 및 후선택 확률을 기초로, 상기 시스템 큐빗의 특정 구성요소를 직접 측정하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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10
제8항에 있어서, 상기 제어부는,상기 시스템 큐빗, 상기 제1 및 제2 관측량, 및 상기 시스템 큐빗에 적용되는 투영 기저를 기초로, 상기 양자 프로세스의 특정 구성요소를 직접 측정하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 장치
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11
제1 측정부, 제2 측정부, 및 제어부를 포함하는 양자 프로세스 분석 장치를 통해 수행되는 양자 프로세스 분석 방법에 있어서,(a) 상기 제1 측정부가 단일 광자의 상태를 기초로 큐빗의 초기 양자상태가 설정되면, 상기 큐빗의 양자상태의 제1 관측량을 측정하는 단계; (b) 상기 제2 측정부가 상기 제1 관측량이 측정된 후 양자 프로세스가 적용된 상기 큐빗의 양자상태의 제2 관측량을 측정하는 단계; 및(c) 상기 제어부가 상기 제1 및 제2 관측량을 기초로 상기 양자 프로세스의 구성요소를 측정하는 단계를 포함하되, 상기 제1 측정부에서 상기 제1 관측량을 측정하기 위하여 수행되는 제1 측정연산 및 상기 제2 측정부에서 상기 제2 관측량을 측정하기 위하여 수행되는 제2 측정연산은 비가환 관계인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제11항에 있어서, 상기 큐빗은, 시스템 큐빗, 보조 큐빗, 및 미터 큐빗을 포함하고,상기 초기 양자상태는, 상기 시스템큐빗, 보조 큐빗, 및 미터 큐빗의 곱 상태인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제12항에 있어서, 상기 (a) 단계는,상기 제1 측정부가 상기 시스템 큐빗과 상기 보조 큐빗의 상호작용에 의해 상기 시스템 큐빗의 제1 관측량을 측정하는 단계를 포함하되, 상기 시스템 큐빗과 상기 보조 큐빗간의 CNOT 유형의 상호작용이 적용되는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제13항에 있어서, 상기 양자 프로세스 분석 장치는 양자 처리부를 더 포함하며, 상기 (a) 단계 이후에,상기 양자 처리부가 상기 제1 관측량이 측정된 후의 큐빗의 양자상태를 변환시키기 위하여 상기 큐빗에 상기 양자 프로세스를 적용시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제14항에 있어서, 상기 (b) 단계는,상기 제2 측정부가 상기 양자 프로세스가 적용되어 양자상태가 변환된 큐빗에 대하여, 시스템 큐빗 및 보조 큐빗을 상기 미터 큐빗과 상호작용하게 하여 상기 시스템 큐빗의 제2 관측량을 측정하는 단계를 포함하되, 상기 시스템 큐빗과 보조 큐빗은 상기 미터 큐빗에 대하여 회전 연산되고, 상기 제2 관측량을 측정하기 위한 측정세기는 기설정된 기준세기 미만인 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제15항에 있어서, 상기 보조 큐빗에는 상기 제1 관측량이 기록되고, 상기 미터 큐빗에는 상기 제1 및 제2 관측량이 기록되는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제16항에 있어서, 상기 양자 프로세스 분석 장치는 후처리부를 더 포함하며, 상기 (b) 단계 이후에,상기 후처리부가 상기 시스템 큐빗 및 보조 큐빗을 특정 양자 상태로 투영시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제17항에 있어서, 상기 양자 프로세스 분석 장치는 추출부를 더 포함하며,상기 시스템 큐빗 및 보조 큐빗이 특정 양자 상태로 투영된 후, 상기 추출부가 상기 제1 및 제2 관측량을 기록하고 있는 미터 큐빗에 대한 기대값을 산출하여, 상기 미터 큐빗으로부터 상기 제1 및 제2 관측량을 추출하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제18항에 있어서, 상기 (c) 단계는,상기 제어부가 상기 제1 및 제2 관측량, 및 후선택 확률을 기초로, 상기 시스템 큐빗의 특정 구성요소를 직접 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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제18항에 있어서, 상기 (c) 단계는,상기 제어부가 상기 시스템 큐빗, 상기 제1 및 제2 관측량, 및 상기 시스템 큐빗에 적용되는 투영측정의 기저를 기초로, 상기 양자 프로세스의 특정 구성요소를 직접 측정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자 프로세스 분석 방법
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