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메탄의 개질 반응이 일어나는 반응용기부를 포함하는 메탄 개질 장치에 있어서,상기 반응용기부는, 제1전극부를 포함하는 제1반응용기부; 및 상기 제1반응용기부와 결합하고, 제2전극부를 포함하는 제2반응용기부를 포함하고,상기 제1전극부 및 상기 제2전극부를 통해 전기장(Electric field)이 형성되고,상기 제1반응용기부는, 제1본체부; 상기 제1본체부의 제1일정 영역에 위치하고, 반응물이 유입되는 반응물 유입구; 상기 제1본체부의 제2일정 영역에 위치하고, 상기 반응물이 반응하여 생성된 생성물 배출구; 및 상기 제1본체부의 제3일정 영역에 위치하는 상기 제1전극부를 포함하고,상기 제2반응용기부는, 제2본체부; 상기 제2본체부의 일정 영역에 위치하고, 일정 깊이를 포함하는 반응공간부; 상기 반응공간부의 영역에 위치하는 상기 제2전극부를 포함하며,상기 제1전극부는, 제1전극; 및 상기 제1전극과 접촉하는 촉매층을 포함하고, 상기 제2전극부는 제2전극을 포함하며,상기 제1전극부는 상기 반응물 유입구와 상기 생성물 배출구의 사이에 위치하고,상기 제1전극부 및 상기 제2전극부는 마주보며 배치되는 것을 특징으로 하는 메탄 개질 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제1전극과 상기 제2전극에 DC 전원이 인가되는 메탄 개질 장치
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제 1 항에 있어서,상기 반응물 유입구를 통해, 반응물인 원료가스 및 캐리어가스가 유입되며,상기 원료가스는 메탄가스이고, 상기 캐리어가스는 Ar, O2 또는 CO2 가스인 메탄 개질 장치
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제 4 항에 있어서,상기 반응공간부는, 상기 반응물 유입구를 통해 유입되는 상기 반응물이 반응을 하기 위한 공간이며, 상기 반응공간부에서 상기 반응물이 반응하여 생성된 생성물은 상기 생성물 배출구를 통해 배출되는 메탄 개질 장치
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제 5 항에 있어서,상기 반응공간부에서는 메탄 산화 이량화 반응 (oxidative coupling of methane)이 일어나는 메탄 개질 장치
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제 3 항에 있어서,상기 촉매층은 Zr, Mo, Ni, Nb, Ti, Zr 및 W로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 물질 또는 이들의 산화물 또는 이들의 화합물인 메탄 개질 장치
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제 3 항에 있어서,상기 반응용기부로 유입되는 상기 반응물을 저장하기 위한 반응물저장부; 및 상기 반응용기부로부터 생성된 생성물을 회수하기 위한 생성물회수부를 더 포함하는 메탄 개질 장치
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제 8 항에 있어서,상기 반응물저장부로부터 상기 반응용기부로 반응물을 유입하기 위한 반응물 유입경로를 더 포함하며, 상기 반응용기부에서 생성된 생성물을 상기 생성물회수부로 회수하기 위한, 생성물 회수경로를 더 포함하는 메탄 개질 장치
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제 9 항에 있어서,상기 반응물 유입경로의 일단은 상기 반응물저장부와 연결되고, 상기 반응물 유입경로의 타단은 상기 반응용기부의 상기 제1반응용기부의 상기 반응물 유입구와 연결되고,상기 생성물 회수경로의 일단은 상기 반응용기부의 상기 제1반응용기부의 상기 생성물 배출구와 연결되고, 상기 생성물 회수경로의 타단은 상기 생성물회수부와 연결되는 메탄 개질 장치
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