맞춤기술찾기

이전대상기술

저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019020518
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 저항 변화 메모리 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 저항 변화 메모리 소자는 제 1 전극; 상기 제 1 전극 상에 배치되며, 제 1 산화수(oxidation number)에 의해 결정되는 모트 절연 특성에 정의되는 제 1 고저항의 제 1 상태와 상기 제 1 산화수보다 큰 제 2 산화수에 의해 결정되는 전도성 특성에 의해 정의되는 저저항의 제 2 상태 사이에서 가역적으로 전이 가능한 3d 전자 오비탈을 갖는 전이 금속의 산화물을 포함하는 저항 변화 물질층; 및 상기 저항 변화 물질층 상에 배치되는 제 2 전극을 포함할 수 있다.
Int. CL H01L 45/00 (2006.01.01)
CPC H01L 45/14(2013.01) H01L 45/14(2013.01) H01L 45/14(2013.01)
출원번호/일자 1020180043598 (2018.04.13)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2019-0119971 (2019.10.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.12.20)
심사청구항수 13

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박형호 서울특별시 강남구
2 위 왕 서울특별시 서대문구
3 강경문 서울특별시 서대문구
4 김민재 경기도 용인시 수지구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김권석 대한민국 서울특별시 서초구 논현로**, B동 *층(양재동, 삼호물산빌딩)(아이피맥스특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.04.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0372514-50
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2018.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-1283762-24
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.09.04 수리 (Accepted) 9-1-2019-0040228-42
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0301979-18
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.06.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0667135-48
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2020-0667089-35
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2020.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0828019-84
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 전극; 상기 제 1 전극 상에 배치되며, 제 1 산화수(oxidation number)에 의해 결정되는 모트 절연 특성에 기반한 제 1 고저항의 제 1 상태와 상기 제 1 산화수보다 큰 제 2 산화수에 의해 결정되는 전도성 특성에 기반한 저저항의 제 2 상태 사이에서 가역적으로 전이 가능한 3d 전자 오비탈을 갖는 전이 금속의 산화물을 포함하는 저항 변화 물질층; 및상기 저항 변화 물질층 상에 배치되는 제 2 전극을 포함하는 저항 변화 메모리 소자
2 2
제 1 항에 있어서,상기 저항 변화 물질층은 상기 제 1 산화수와 상기 제 2 산화수 사이의 제 3 산화수에 의해 결정되는 밴드 절연성 특성에 기반하는 제 2 고저항의 제 3 상태로 전이 가능하고, 상기 제 2 고저항은 상기 제 1 고저항보다 작은 저항 값을 갖는 저항 변화 메모리 소자
3 3
제 2 항에 있어서,상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로 전이되거나, 상기 제 2 상태에서 상기 제 1 상태로 전이될 때, 상기 제 3 상태를 걸쳐서 전이가 이루어지는 저항 변화 메모리 소자
4 4
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 전압 신호 또는 전류 신호를 인가하여 상기 전이 금속의 산화물 내의 산소 이온 또는 산소 공공의 농도를 제어함으로써 상기 전이 금속의 산화수를 상기 제 1 산화수 또는 상기 제 2 산화수를 갖도록 변화시키는 저항 변화 메모리 소자
5 5
제 1 항에 있어서,상기 전이 금속의 산화물은 Ti2O3, VO2 및 V2O3 중 어느 하나 또는 이들의 조합을 포함하는 저항 변화 메모리 소자
6 6
제 1 항에 있어서,상기 전이 금속의 산화물은 적어도 하나의 도펀트를 더 포함하며,상기 도펀트는 란탄계 원소 또는 전이 금속 및 복수의 산화수를 가지는 도펀트를 포함하는 저항 변화 메모리 소자
7 7
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은, 산화 가능한 반응성 금속으로서, 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 알루미늄(Al) 또는 이들의 합금을 포함하며, 상기 제 2 전극은, 비반응성 귀금속으로서, 백금(Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 금(Au), 루테늄(Ru) 또는 이들의 합금을 포함하는 저항 변화 메모리 소자
8 8
제 1 항에 있어서,상기 저항 변화 물질층의 상기 제 1 상태에는 제 1 논리 정보가 할당되고, 상기 저항 변화 물질층의 상기 제 2 상태에는 제 2 논리 정보가 할당되는 저항 변화 메모리 소자
9 9
제 8 항에 있어서,상기 제 1 논리 정보는 ‘1’이며 상기 제 2 논리 정보는 ‘0’이거나,상기 제 1 논리 정보는 ‘0’이며 상기 제 2 논리 정보는 ‘1’인 저항 변화 메모리 소자
10 10
제 1 항 기재의 상기 저항 변화 메모리 소자를 정보 저장 요소로 포함하는 메모리 셀들의 크로스 포인트(cross point) 구조를 갖는 반도체 메모리 장치
11 11
산화 가능한 제 1 전극을 형성하는 단계; 상기 제 1 전극 상에, 제 1 산화수(oxidation number) 및 고저항의 모트 절연 특성에 정의되는 제 1 상태와 상기 제 1 산화수보다 큰 제 2 산화수 및 저저항의 전도성 특성에 의해 정의되는 제 2 상태 사이의 전이 상태를 갖는 3d 전이 금속 산화물을 포함하는 저항 변화 물질층을 형성하는 단계; 및상기 저항 변화 물질층 상에, 제 2 전극을 형성하는 단계를 포함하는 저항 변화 메모리 소자의 제조 방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 전이 상태는, 상기 3d 전이 금속 산화물의 제 1 산화수와 상기 3d 전이 금속 산화물의 제 2 산화수 사이의 제 3 산화수 및 상기 모트 절연 특성의 고저항보다 낮고 상기 전도성 특성의 저저항 보다 높은 준 전도성(semi conduction) 특성에 의해 정의되는 제 3 상태를 더 포함하는 저항 변화 메모리 소자의 제조 방법
13 13
제 12 항에 있어서,상기 제 1 상태에서 상기 제 2 상태로 전이되거나, 상기 제 2 상태에서 상기 제 1 상태로 전이될 때, 상기 제 3 상태를 걸쳐서 전이가 이루어지는 저항 변화 메모리 소자의 제조 방법
14 14
제 11 항에 있어서,상기 제 1 전극은, 산화 가능한 반응성 금속으로서, 타이타늄(Ti), 텅스텐(W), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 탄탈륨(Ta) 또는 이들의 합금을 포함하고,상기 제 2 전극은, 비반응성 귀금속으로서, 백금(Pt), 이리듐(Ir), 팔라듐(Pd), 금(Au), 루테늄(Ru) 또는 이들의 합금을 포함하는 저항 변화 메모리 소자의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 연세대학교 산학협력단 기타사업 Mott-transition 기반 Forming-less 비휘발성 저항 변화 메모리 및 Array 개발