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플라즈마 공정 모니터링 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 처리장치

  • 기술번호 : KST2019020525
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 챔버 내의 일정 영역에 분포된 플라즈마 광의 측정이 가능한 플라즈마 공정 모니터링 장치 및 이를 포함하는 플라즈마 처리장치에 관한 것이다. 플라즈마 공정 모니터링 장치는 선택영역 광 투과부 및 모니터링부를 포함한다. 선택영역 광 투과부는 챔버에 형성된 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 뷰 포트를 통해 방출되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 복수의 선택적 차광부가 마련된다. 모니터링부는 복수의 선택적 차광부 중 적어도 하나를 투과한 플라즈마 광을 수신하여 플라즈마 광의 정보를 획득하며, 플라즈마 광의 정보를 통해 챔버 내에 형성된 플라즈마의 균일도를 모니터링한다. 플라즈마 처리장치는 챔버와, 뷰 포트와, 선택영역 광 투과부, 및 모니터링부를 포함한다. 챔버는 플라즈마를 이용한 공정이 진행된다. 뷰 포트는 챔버에 설치되며, 챔버 내에서 방출되는 플라즈마 광을 외부로 전달한다. 선택영역 광 투과부는 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 뷰 포트를 통해 방출되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 복수의 선택적 차광부가 마련된다. 모니터링부는 복수의 선택적 차광부 중 적어도 하나를 투과한 플라즈마 광을 수신하여 플라즈마 광의 정보를 획득하며, 플라즈마 광의 정보를 통해 챔버 내에 형성된 플라즈마의 균일도를 모니터링한다.
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01) G01J 1/02 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32972(2013.01) H01J 37/32972(2013.01)
출원번호/일자 1020180056161 (2018.05.16)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2035423-0000 (2019.10.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20191022) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.16)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤일구 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2018-0483661-23
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0039555-04
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.04.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0272852-35
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-0617709-15
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0617639-17
7 등록결정서
Decision to grant
2019.10.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0741533-54
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
챔버에 형성된 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 상기 뷰 포트를 통해 방출되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 복수의 선택적 차광부가 마련된 선택영역 광 투과부; 및상기 복수의 선택적 차광부 중 적어도 하나를 투과한 플라즈마 광을 수신하여 상기 플라즈마 광의 정보를 획득하며, 상기 플라즈마 광의 정보를 통해 상기 챔버 내에 형성된 플라즈마의 균일도를 모니터링하는 모니터링부;를 포함하며, 상기 복수의 선택적 차광부는 상기 뷰 포트를 영역별로 나누어 번갈아 가며 상기 플라즈마 광을 차단 또는 투과시키는 플라즈마 공정 모니터링 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 광 투과부는 수평 방향 또는 수직 방향으로 나란하게 배치되는 복수개의 선택적 차광부를 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 선택적 차광부는 직사각형 형상으로 형성되는 플라즈마 공정 모니터링 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 광의 정보는 상기 선택적 차광부를 투과한 플라즈마 광의 강도(intensity) 또는 광량을 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,적어도 1개 이상의 영역으로 구획되어 개별적으로 전원을 공급받는 적어도 하나 이상의 단위 LCD 패널을 구비하며, 전원이 공급된 영역에만 상기 플라즈마 광이 투과하도록 하는 투명 LCD 패널과, 상기 투명 LCD 패널에 연결되며, 상기 단위 LCD 패널의 각 영역에 선택적으로 전원을 공급하는 스위칭부를 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,상기 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 개구가 형성된 프레임과,상기 프레임 내에 일렬로 배치되어 상기 개구의 일정 영역을 선택적으로 차폐하는 복수의 셔터부재를 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,서로 중첩되도록 배치되는 적어도 2개 이상의 편광필터를 구비하고, 상기 플라즈마 광이 선택적으로 투과하도록 형성된 복수의 편광필터 세트와,상기 편광필터 세트에 구비되는 편광필터 가운데 적어도 하나의 배치각도를 제어하여 상기 편광필터 세트로 입사되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 제어부를 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는 상기 뷰 포트의 일면에 일체로 형성된 플라즈마 공정 모니터링 장치
9 9
제2항에 있어서, 상기 선택적 차광부는 상기 플라즈마 광을 일방향을 따라 순차적으로 투과시키는 플라즈마 공정 모니터링 장치
10 10
제1항에 있어서, 상기 모니터링부는 광 섬유(Optical Fiber) 또는 측정 센서를 구비하여 상기 플라즈마 광의 강도 또는 광량을 모니터링하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
11 11
제1항에 있어서, 상기 모니터링부는 광 방출 분석기(OES: Optical Emission Spectroscope) 또는 카메라를 구비하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
12 12
제1항에 있어서, 상기 모니터링부는 상기 각각의 선택적 차광부를 투과한 플라즈마 광의 정보를 수신 및 상호 비교하여, 상기 챔버 내부에 형성된 플라즈마의 균일도를 판단하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
13 13
제1항에 있어서, 상기 모니터링부는 상기 선택적 차광부를 투과한 플라즈마 광의 아크방전 상태를 촬영하기 위한 촬영 모듈을 더 포함하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
14 14
제1항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부와 상기 모니터링부 사이에는 상기 챔버 내부로부터 방출되는 상기 플라즈마 광의 입사각 범위를 확장 및 집속하여 상기 모니터링부로 제공하는 집광부가 더 설치되는 플라즈마 공정 모니터링 장치
15 15
플라즈마를 이용한 공정이 진행되는 챔버; 상기 챔버에 설치되며, 상기 챔버 내에서 방출되는 플라즈마 광을 외부로 전달하는 뷰 포트; 상기 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 상기 뷰 포트를 통해 방출되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 복수의 선택적 차광부가 마련된 선택영역 광 투과부; 및상기 복수의 선택적 차광부 중 적어도 하나를 투과한 플라즈마 광을 수신하여 상기 플라즈마 광의 정보를 획득하며, 상기 플라즈마 광의 정보를 통해 상기 챔버 내에 형성된 플라즈마의 균일도를 모니터링하는 모니터링부;를 포함하며, 상기 복수의 선택적 차광부는 상기 뷰 포트를 영역별로 나누어 번갈아 가며 상기 플라즈마 광을 차단 또는 투과시키는 플라즈마 처리장치
16 16
제15항에 있어서,상기 광 투과부는 수평 방향 또는 수직 방향으로 나란하게 배치되는 직사각형 형상의 복수개의 선택적 차광부를 포함하는 플라즈마 처리장치
17 17
제15항에 있어서, 상기 플라즈마 광의 정보는 상기 선택적 차광부를 투과한 플라즈마 광의 강도(intensity) 또는 광량을 포함하는 플라즈마 처리장치
18 18
제15항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,적어도 1개 이상의 영역으로 구획되어 개별적으로 전원을 공급받는 적어도 하나 이상의 단위 LCD 패널을 구비하며, 전원이 공급된 영역에만 상기 플라즈마 광이 투과하도록 하는 투명 LCD 패널과, 상기 투명 LCD 패널에 연결되며, 상기 단위 LCD 패널의 각 영역에 선택적으로 전원을 공급하는 스위칭부를 포함하는 플라즈마 처리장치
19 19
제15항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,상기 뷰 포트와 마주하게 배치되며, 개구가 형성된 프레임과,상기 프레임 내에 일렬로 배치되어 상기 개구의 일정 영역을 선택적으로 차폐하는 복수의 셔터부재를 포함하는 플라즈마 처리장치
20 20
제15항에 있어서, 상기 선택영역 광 투과부는,서로 중첩되도록 배치되는 적어도 2개 이상의 편광필터를 구비하고, 상기 플라즈마 광이 선택적으로 투과하도록 형성된 복수의 편광필터 세트와,상기 편광필터 세트에 구비되는 편광필터 가운데 적어도 하나의 배치각도를 제어하여 상기 편광필터 세트로 입사되는 플라즈마 광을 선택적으로 차단하는 제어부를 포함하는 플라즈마 처리장치
지정국 정보가 없습니다
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1 CN110504150 CN 중국 FAMILY
2 US20190355559 US 미국 FAMILY

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1 CN110504150 CN 중국 DOCDBFAMILY
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