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광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2019020817
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법에 관한 것이고, 이러한 방법에 의해 형성된 재배선층에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 경우에 따라서 선택적으로 IPL 노출하고, 광열 효과를 이용하여 수 초 이내 금속 패터닝 가능하다. 또한, 산용액 등을 사용하지 않아, 환경유해성, 독성 등의 문제가 없으며, 공정단계가 간편하고, 고가의 진공장비가 필요없는 장점을 갖는다. 특히 본 발명에서는 공정시간이 획기적으로 단축되었는데, 기존의 열 소결의 경우 최소 30분 이상의 시간이 걸렸고, 도금이나 진공 공정의 경우 수 시간이 걸렸으나, 본 발명에서는 광소결을 통해 수십초(10번의 펄스 조건에서 10초 이내) 이내에서 공정이 완료된다. 본 발명에서는, 광열 효과를 이용한 공정을 통하여, 다층의 패턴을 쉽게 구현 가능하여, 고집적도의 전자패키지 구현에 유리하다.
Int. CL H05K 3/12 (2006.01.01) H05K 1/09 (2006.01.01) H05K 3/22 (2006.01.01)
CPC H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01)
출원번호/일자 1020180047651 (2018.04.25)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-2040530-0000 (2019.10.30)
공개번호/일자 10-2019-0123847 (2019.11.04) 문서열기
공고번호/일자 (20191105) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.04.25)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정승부 서울특별시 서초구
2 정광호 경기도 수원시 장안구
3 명우람 경기도 수원시 장안구
4 정학산 서울특별시 마포구
5 박범근 경기도 수원시 장안구
6 이충재 경기도 수원시 장안구
7 민경득 경기도 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2018-0409258-12
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.04.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.06.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0078136-35
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0545866-00
5 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.08.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-0874984-60
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.09.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0996016-27
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2019-0996014-36
8 등록결정서
Decision to grant
2019.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0764268-32
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번호 청구항
1 1
1) 기판 상에 재배선층을 위한 액상 전극 패턴을 인쇄하는 단계;2) 상기 전극 패턴 상에 투명한 폴리머를 코팅하는 단계;3) 광 에너지를 이용하여 상기 전극 패턴을 광소결하는 단계; 및4) 상기 광소결에 의해 상기 액상 전극 패턴에 포함된 유기물들이 증발되면서 상기 액상 전극 패턴 상부의 폴리머가 제거됨으로써 패터닝이 이루어지는 단계를 포함하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 액상 전극 패턴은, 금속 또는 비금속 입자를 포함하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
3 3
제 2 항에 있어서,상기 액상 전극 패턴은, 바인더, 분산제, 용매를 추가로 포함하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 1) 단계 이후 상기 액상 전극 패턴을 건조하는 단계를 추가로 포함하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 광소결에 의해 상기 전극 패턴은 유기물이 증발함에 따른 압력에 의해 부풀고 내부에 기공을 포함하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 1) 내지 4) 단계를 반복적으로 실행함으로써 복수의 재배선층을 형성하는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 열경화성 수지 또는 열가소성 수지가 이용되는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
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제 7 항에 있어서,상기 폴리머로 PDMS(polydimethylsiloxane) 수지가 이용되어 유전층이 형성되며, 이에 의해 유전층의 패터닝이 가능한,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
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제 8 항에 있어서,상기 PDMS 수지는 6000 rpm 이하의 속도로 스핀 코팅되는,광소결을 이용해 재배선층을 형성하는 방법
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1 US20190335590 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육부 성균관대학교(자연과학캠퍼스) 이공학학술연구기반구축(R&D) 첨단소재기술연구소
2 교육부 성균관대학교(자연과학캠퍼스) 개인기초연구(교육부)(R&D) 전자패키지 Interconnection Materials 용 금속기반 Nanocomposite 개발과 저온 IPL 에너지의 전자패키징기술 적용 연구