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제 1 구조 패턴이 형성된 스킨의 표면상에 고분자 물질을 도포하는 단계;상기 고분자 물질을 건조하여 상기 제 1 구조 패턴에 대응되는 제 2 구조 패턴이 형성된 유연 기판을 획득하는 단계;상기 제 2 구조 패턴 상에 전도성 물질을 도포하는 단계; 및상기 전도성 물질의 일 면에 전극을 부착하는 단계;를 포함하고,상기 전극과 상기 전도성 물질 간의 저항 값은 상기 유연 기판 또는 상기 전극으로 인가되는 움직임에 따라 결정되는, 센싱 장치 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 전극의 저항 값은 상기 전도성 물질의 저항 값보다 작은, 센싱 장치 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 유연 기판의 유연성은 상기 전극의 유연성보다 높은, 센싱 장치 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 구조 패턴이 형성된 스킨은 생체 스킨을 포함하는, 센싱 장치 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 구조 패턴은 경사하강법을 통해 결정되는, 센싱 장치 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 움직임 대비 상기 저항 값의 변화량을 나타내는 민감도가 기설정 값 이상이 되도록 상기 제 1 구조 패턴을 결정하는 단계를 더 포함하는, 센싱 장치 제조 방법
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인가되는 움직임을 센싱하는 장치에 있어서,스킨의 제 1 구조 패턴에 대응되는 제 2 구조 패턴이 형성된 제 1 면을 포함하는 유연 기판;상기 제 1 면의 상기 제 2 구조 패턴에 맞물려 일 측면이 부착되는 전도성 물질; 및상기 전도성 물질의 타 측면에 부착되는 전극;을 포함하고,상기 유연 기판 또는 상기 전극으로 인가되는 움직임에 따라 결정되는 상기 전극과 상기 전도성 물질 간의 저항 값에 기초하여 상기 유연 기판 또는 상기 전극으로 인가되는 움직임을 센싱하는, 센싱 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 전극의 저항 값은 상기 전도성 물질의 저항 값보다 낮은, 센싱 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 유연 기판의 유연성은 상기 전극의 유연성보다 높은, 센싱 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 제 1 구조 패턴은 상기 움직임 대비 상기 저항 값의 변화량을 나타내는 민감도가 기설정값 이상이 되도록 결정되는, 장치
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제 1 전극면과 제 2 전극면을 포함하는 전극의 제 1 전극면에 움직임을 인가받는 단계;스킨의 제 1 구조 패턴에 대응되는 제 2 구조 패턴이 형성된 유연 기판의 제 1 면에 상기 제 2 구조 패턴에 맞물려 일 측면이 부착되는 전도성 물질과 상기 전도성 물질의 타 측면에 상기 제 2 전극면이 부착되는 상기 전극 간의 저항 값을 결정하는 단계; 및상기 움직임에 따른 상기 저항 값의 변화에 기초하여 상기 전극으로 인가되는 상기 움직임을 센싱하는 단계를 포함하는 센싱 방법
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인가되는 압력을 센싱하는 장치에 있어서,구조 패턴이 형성된 제 1 면을 포함하는 유연 기판;상기 유연 기판의 상기 제 1 면에 일 측면이 부착되는 전도성 물질; 및상기 전도성 물질의 타 측면에 부착되는 전극;을 포함하고,상기 유연 기판 또는 상기 전극으로 인가되는 압력에 따라 상기 전극과 상기 전도성 물질 간의 저항 값이 결정되고, 상기 저항 값에 따라서 상기 유연 기판 또는 상기 전극으로 인가되는 압력을 센싱하는, 센싱 장치
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