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베이스층 상에 아조벤젠기를 포함하는 폴리머(azobenzene-functionalized polymer)층을 형성하여 샘플을 준비하는 단계; 상기 샘플에 광간섭빔을 조사할 기준각도를 정하고, 광간섭 빔을 조사하여 기준 미세패턴의 기준 표면요철(surface relief gratings)을 형성하는 단계; 상기 기준각도를 기준으로 상기 샘플을 제1 회전각도로 회전시키고, 상기 기준 미세패턴 상에 광간섭 빔을 조사하여 제1 미세패턴의 제1 표면요철을 형성하는 단계; 상기 기준각도를 기준으로 상기 샘플을 제2 회전각도로 회전시키고, 상기 제1 미세패턴 상에 광간섭 빔을 조사하여 제2 미세패턴의 제2 표면요철을 형성하는 단계; 상기 기준각도를 기준으로 상기 샘플을 제3 회전각도로 회전시키고, 상기 제2 미세패턴 상에 광간섭 빔을 조사하여 제3 미세패턴의 제3 표면요철을 형성하는 단계; 및 상기 기준각도를 기준으로 상기 샘플을 제4 회전각도로 회전시키고, 상기 제3 미세패턴 상에 광간섭 빔을 조사하여 제4 미세패턴의 제4 표면요철을 형성하는 단계; 를 포함하되, 상기 제1 회전각도 내지 제4 회전각도는 순서를 선택적으로 제어하여 상기 샘플을 회전시키며, 상기 제1 회전각도 내지 제4 회전각도에서 각각 조사되는 상기 광간섭빔 중 적어도 둘 이상은 중첩되도록 배치되는 것을 특징으로 하고,상기 제1 회전각도는 상기 기준각도를 기준으로 18° 내지 54°로 회전한 각도이고, 상기 제2 회전각도는 상기 기준각도를 기준으로 90° 내지 126°로 회전한 각도이고,상기 제3 회전각도는 상기 기준각도를 기준으로 54° 내지 90°로 회전한 각도이고,상기 제4 회전각도는 상기 기준각도를 기준으로 126° 내지 162°로 회전한 각도인 것을 특징으로 하고,상기 제1 내지 제4 회전각도로 각각 광간섭빔을 제공하는 단계에 있어서, 상기 샘플에 상기 광간섭빔을 1분 내지 300분 내의 시간동안 제공하는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 1항에 있어서, 상기 폴리머층은 10nm내지 1000nm두께 범위로 형성하는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4 표면요철은 1 nm 내지 300nm 범위에서 단차가 형성된 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4 표면요철의 주요 주기는 450nm, 714nm 및 1250nm인 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 1항에 있어서, 상기 제4 표면요철은 10점 평균 거칠기(Rz)가 400nm 내외인고, 제곱평균 제곱근 거칠기(root mean square roughness, Rq)가 100nm미만이고, 중심선 평균 거칠기(Ra)가 50nm 내외인 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제1 항에 있어서, 상기 샘플에 상기 광간섭빔을 제공하기 위한 준결정 표면 격자 패턴의 형성 시스템을 포함하고,상기 준결정 표면 격자 패턴의 형성 시스템은, 입력빔을 발진시키는 출력부,상기 입력빔을 제1 레이저빔과 제2 레이저빔으로 분리시키는 스플리터, 상기 제1 레이저빔을 제공받아 반사시키며 제1 광간섭빔을 형성하는 제1 미러, 및 상기 제2 레이저빔을 제공받아 반사시키며 제2 광간섭빔을 형성하는 제2 미러를 포함하되, 상기 샘플은 상기 스플리터와 상기 샘플의 평면이 이루는 가상의 법선의 경로 상에 목표 간격으로 이격되어 배치되며, 상기 제1 광간섭빔과 제2 광간섭빔 각각은, 상기 스플리터와 상기 샘플의 평면이 이루는 상기 가상의 법선을 기준으로 동일한 목표 입사각으로 형성되는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 출력부에 제공되는 상기 입력빔은 480 내지 580nm범위의 레이저빔인 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 스플리터와 상기 제1 미러 사이, 상기 스플리터와 상기 제2 미러 사이에는 각각 편광판과 반파장판(halfwave-plate)이 더 배치되는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 출력부와 스플리터 사이에는 상기 입력빔의 입력세기를 조절하는 세기조절부가 배치되는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 11항에 있어서, 상기 세기조절부는 공간 필터(spatial filter) 렌즈, 편광판을 포함하는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 입력빔과 상기 제1 레이저빔 및 제2 레이저빔은 상이한 세기의 레이저빔인 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 목표 간격은 상기 제1 광간섭빔, 제2 광간섭빔 및 상기 폴리머층의 표면이 합쳐지는 영역에 배치되는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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제 8항에 있어서, 상기 목표 입사각은 0도 초과 내지 90도 미만의 각도 범위로 형성되는 것을 특징으로 하는 준결정 표면 격자 패턴 형성방법
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