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합성수지를 이용한 SERS 기판에 있어서,필름의 형상으로 형성되는 기판;양극산화 알루미늄으로 형성되는 주형의 홈에 광경화성 수지가 용융되어 주입되고 상기 기판과 접촉된 후 광경화되어 형성되며, 상기 기판의 일면에 돌기가 복수 개 접착되어 형성되는 돌기부; 및은(Ag)의 나노입자를 포함하는 잉크를 이용한 습식증착에 의해, 상기 나노입자가 상기 돌기의 표면에 코팅된 후 50℃의 온도에서 에이징되어 형성되는 나노층;을 포함하고,상기 주형은 연마, 옥살산을 이용한 1차 아노다이징, 크롬산과 인산을 이용한 에칭, 옥살산을 이용한 2차 아노다이징, 및 옥살산을 이용한 확장의 각 공정이 순차적으로 수행되어 형성되며,상기 돌기부가 형성된 상기 주형의 면에 상기 기판을 밀착시키고 롤러 작업을 수행하여 상기 돌기부와 상기 기판을 접착시키고, 상기 돌기부와 상기 기판을 광경화시키며, 다음으로 상기 돌기부가 형성된 상기 기판을 상기 주형으로부터 분리시킨 후 상기 돌기부와 상기 기판 상에 상기 나노층을 형성시키는 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1에 있어서, 상기 돌기는 원기둥 형상인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항2에 있어서,상기 돌기의 높이는, 10 내지 5,000 나노미터(㎚)인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항2에 있어서,상기 돌기와 상기 기판이 접촉하는 면의 지름은, 10 내지 5,000 나노미터(㎚)인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1에 있어서,상기 나노입자의 크기는, 1 내지 1,000 나노미터(㎚)인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1에 있어서,상기 돌기는 자외선(Ultraviolet, UV) 또는 전자선(Electron Beam, EB)에 의해 경화되는 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1에 있어서, 상기 돌기는 폴리우레탄 아크릴레이트(Polyurethane Acrylates, PUA), 폴리에스테르 아크릴레이트(Polyester Acrylates), 에폭시 아크릴레이트(Epoxy Acrylates) 및 폴레에터 아크릴레이트(Polyether Acrylates)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1에 있어서,상기 기판은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 폴리염화비닐(PVC), 폴리아크릴(PC) 및 폴리프로필렌(PP)으로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판
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청구항1의 합성수지를 이용한 SERS 기판의 제조방법에 있어서,(ⅰ) 양극산화 알루미늄(AAO)으로 형성된 상기 주형을 마련하는 단계;(ⅱ) 합성수지 단량체 또는 용융된 합성수지를 상기 주형에 투입하여 상기 돌기부를 형성하는 단계;(ⅲ) 상기 돌기부가 형성되는 상기 주형의 면에 상기 기판을 밀착하는 단계;(ⅳ) 상기 기판과 상기 돌기부에 광을 조사하여 광경화시키는 단계;(ⅴ) 상기 돌기부가 형성된 상기 기판을 상기 주형에서 분리하는 단계;(ⅵ) 상기 돌기부에 금속인 상기 나노입자를 코팅하여 상기 나노층을 형성하는 단계; 및(ⅶ) 상기 나노층을 열로 에이징(aging)하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판의 제조방법
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청구항12에 있어서,상기 (ⅳ)단계의 광이 자외선인 경우, 상기 자외선의 파장은 200 내지 500 나노미터(㎚)인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판의 제조방법
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청구항12에 있어서,상기 (ⅶ)단계의 에이징 시간은, 5 내지 300분(min)인 것을 특징으로 하는 합성수지를 이용한 SERS 기판의 제조방법
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