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레이저를 구비한 박막 증착장치에 있어서,증착챔버;상기 증착챔버와 결합하고, 증착물질의 가스를 분배하며, 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)의 수행을 위한 샤워헤드를 구비하며, 자기장을 형성하여 상기 증착챔버 내에 플라즈마를 생성시키는 전기장발생기를 구비하는 가스공급부;상기 증착챔버의 하단부에 설치되고, 증착의 대상이 되는 기판이 설치되는 지지판;상기 증착챔버의 내부 또는 외부에 설치되고, 조사 파장이 100 내지 20,000 나노미터(㎚)로 형성되어, 증착으로 형성된 박막의 표면에 대한 열변형을 방지하고, 상기 박막에 에너지를 공급하여 상기 박막이 치밀해지도록 하는 레이저부;상기 레이저부와 결합하여, 상기 레이저부를 구동시키고, 상기 지지판과 상기 레이저부의 상대적 기울기 또는 상대적 위치를 변경시키는 레이저구동부;상기 지지판과 결합하여, 상기 지지판을 구동시키고, 상기 레이저부와 상기 지지판의 상대적 기울기 또는 상대적 위치를 변경시키는 지지판구동부; 및상기 레이저구동부와 상기 지지판구동부를 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 기판에 대한 레이저의 조사 각도 또는 위치가 변화되도록 상기 레이저부 또는 상기 지지판의 기울기나 위치가 제어되고, 상기 레이저부로부터 상기 박막에 공급되는 에너지의 양이 조절되어, 상기 박막의 패터닝 형상이 제어되고 상기 박막의 각 부위의 굴절률, 두께 또는 치밀도가 조절되는 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1에 있어서, 상기 레이저부는, CO2 레이저를 구비하는 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1에 있어서, 상기 전기장발생기에 인가되는 전원은, 교류 또는 직류인 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1에 있어서,상기 증착챔버 내부는, 진공인 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1에 있어서,상기 증착물질은, 실리콘(Si), 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 탄화물(SiCx), 알루미늄 산화물(AlOx), 티타늄(Ti) 및 티타늄산화물(TiOx)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1에 있어서,상기 증착물질은, ITO(Indium tin oxide), IZO(Indium zinc oxide), SnO2, ZnO, AZO(Aluminium zinc oxide), IGZO(Indium gallium zinc oxide), AZTO(Aluminium zinc tin oxide), GZO(Gallium zinc oxide), ATO(Antimony tin oxide), ATO(Antimony tin oxide), ZTO(zinc tin oxide) 및 FTO(Fluorine-doped tin oxide)로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 산화물반도체인 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치
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청구항1의 레이저를 구비한 박막 증착장치를 이용한 증착방법에 있어서,(ⅰ) 상기 증착챔버 내부로 상기 증착물질의 가스와 반응가스를 공급하는 단계;(ⅱ) 상기 전기장발생기에 전원을 인가하는 단계;(ⅲ) 상기 레이저부와 상기 지지판의 기울기와 위치를 제어하는 단계;(ⅳ) 상기 레이저부가 상기 기판으로 레이저를 조사하는 단계; 및(ⅴ) 상기 (ⅲ) 단계와 상기 (ⅳ) 단계를 반복 수행하여 상기 박막을 소정의 형상으로 패터닝(patterning)하는 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치를 이용한 증착방법
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청구항11에 있어서,상기 (ⅳ) 단계는, 상기 레이저부에서 출력되는 레이저의 파워를 1 내지 3,000 W/cm2로 조절하여 수행되는 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치를 이용한 증착방법
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청구항11에 있어서, 상기 (ⅰ) 단계의 상기 증착챔버는, 공정압력이 1 내지 3,000 밀리토르(mTorr)인 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치를 이용한 증착방법
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청구항11에 있어서,상기 (ⅲ) 단계의 상기 레이저부 또는 상기 지지판은, 각도 조절 및 상하 좌우 이동이 가능한 것을 특징으로 하는 레이저를 구비한 박막 증착장치를 이용한 증착방법
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디스플레이 소자에 대한 수분과 산소 투과를 방지하는 봉지막(Encapsulation Layer)에 있어서,청구항11 내지 청구항14 중 선택되는 어느 하나의 항의 방법에 의해 상기 디스플레이 소자에 코팅되는 것을 특징으로 하는 봉지막
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디스플레이 소자에 있어서,청구항11 내지 청구항14 중 선택되는 어느 하나의 항의 방법에 의해 코팅되는 박막을 구비하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 소자
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