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PEDOT:PSS(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate));하기 구조식 1로 표시되는 화합물; 및하기 구조식 2로 표시되는 화합물;을포함하고,전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제1항에 있어서,PEDOT:PSS 100중량부;상기 구조식 1로 표시되는 화합물 1 내지 100 중량부; 및상기 구조식 2로 표시되는 화합물 1 내지 100 중량부;를포함하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제1항에 있어서,상기 조성물이 금속 나노와이어를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제4항에 있어서,상기 금속 나노와이어가 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 주석(Sn), 코발트(Co), 철(Fe), 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti), 아연(Zn), 구리(Cu), 인듐(In) 및 이들의 혼합물 중에서 선택된 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제4항에 있어서,상기 금속 나노와이어가 PEDOT:PSS 100중량부에 대하여 1 내지 500중량부인 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제1항에 있어서,상기 조성물이 극성 유기분자 도펀트를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제7항에 있어서,상기 조성물이 극성 유기분자 도펀트 1 내지 1,000중량부를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제7항에 있어서,상기 극성 유기분자 도펀트가 에틸렌글리콜(Ethylene Glycol), 디에틸렌글리콜(Diethylene Glycol), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethyl formamide), 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Keton), 클로로포름(Chloroform), 디클로로메탄(Dichloromethane), N-메틸피롤리디논(N-methylpyrrolidinone), 디클로로메탄(Dichloromethane), d-소르비톨(d-sorbitol), 디메틸설폭사이드(Dimethyl Sulfoxide), 이온성 액체(ionic liquid), 디메틸설페이트(Dimethyl Sulfate), 폴리에틸렌글리콜(Poly Ethylene Glycol), 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, t-부틸알코올(t-butyl alcohol), 이소프로판올(Isopropanol), 벤질알코올(Benzyl Alcohol), 디올(Diol), 폴리올(Polyol), 아세토니트릴(Acetonitrile), 아세톤, 글리세롤, 테트라하이드로푸란(Tetrahydrofuran), 에틸아세테이트(Ethyl Acetate), 부틸아세테이트(Butyl Acetate), 프로필렌글리콜디아세테이트(Propylene Glycol Diacetate), 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(Propylene Glycol Methyl Ether Acetate), 포름산(Formic Acid), 아세트산(Acetic Acid), 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic Acid), 아세토나이트릴(Acetonitrile), 트리플루오로아세토나이트릴(Trifluoroacetonitrile) 및 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 필름에 사용하기 위한 조성물
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제1항에 있어서,상기 조성물이 물을 추가로 포함하고, 상기 PEDOT:PSS와 물의 중량비가 0
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PEDOT:PSS(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate)); 및하기 구조식 1로 표시되는 화합물 및 하기 구조식 2로 표시되는 화합물을 중합시킨 중합체:를포함하는 전도성 필름
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제11항에 있어서,상기 전도성 필름은 전자파 차폐용 필름인 것을 특징으로 하는 전도성 필름
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제11항에 따른 전도성 필름을 포함하는 전자소자
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제14항에 있어서,상기 전자소자가 열전소자인 것을 특징으로 하는 전자소자
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PEDOT:PSS, 하기 구조식 1로 표시되는 화합물, 및 하기 구조식 2로 표시되는 화합물을 혼합하여 혼합물을 제조하는 단계 (단계 1); 상기 혼합물을 기판위에 코팅하는 단계 (단계 2): 및상기 코팅된 혼합물에 포함된 하기 구조식 1로 표시되는 화합물 및 하기 구조식 2로 표시되는 화합물을 중합하여 전도성 필름을 제조하는 단계 (단계 3);을 포함하는 전도성 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 혼합물이 극성 유기분자 도펀트를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
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제17항에 있어서,상기 극성 유기분자 도펀트가 에틸렌글리콜(Ethylene Glycol), 디에틸렌글리콜(Diethylene Glycol), N,N-디메틸포름아미드(N,N-dimethyl formamide), 메틸에틸케톤(Methyl Ethyl Keton), 클로로포름(Chloroform), 디클로로메탄(Dichloromethane), N-메틸피롤리디논(N-methylpyrrolidinone), 디클로로메탄(Dichloromethane), d-소르비톨(d-sorbitol), 디메틸설폭사이드(Dimethyl Sulfoxide), 이온성 액체(ionic liquid), 디메틸설페이트(Dimethyl Sulfate), 폴리에틸렌글리콜(Poly Ethylene Glycol), 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, t-부틸알코올(t-butyl alcohol), 이소프로판올(Isopropanol), 벤질알코올(Benzyl Alcohol), 디올(Diol), 폴리올(Polyol), 아세토니트릴(Acetonitrile), 아세톤, 글리세롤, 테트라하이드로푸란(Tetrahydrofuran), 에틸아세테이트(Ethyl Acetate), 부틸아세테이트(Butyl Acetate), 프로필렌글리콜디아세테이트(Propylene Glycol Diacetate), 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트(Propylene Glycol Methyl Ether Acetate), 포름산(Formic Acid), 아세트산(Acetic Acid), 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic Acid), 아세토나이트릴(Acetonitrile), 트리플루오로아세토나이트릴(Trifluoroacetonitrile) 및 디메틸아세트아마이드(Dimethylacetamide) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 단계 (3)의 중합이 열을 가하여 라디칼 중합하는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
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제16항에 있어서,상기 코팅이 스핀 코팅, 스프레이 코팅, 닥터 블레이드 코팅, 및 딥 코팅, 콤마(comma) 코팅, 그라비아 코팅, 마이크로그라비아 코팅, 및 슬롯다이 코팅 중에서 선택된 어느 하나의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 필름의 제조방법
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