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가연성물질 및 유동사를 이용하여 연소 반응이 이루어지고, 배가스 및 고온의 유동사를 토출하는 연소 반응기(100); 상기 연소 반응기(100)에서 이송된 배가스 및 고온의 유동사를 수용하는 사이클론(210); 상기 사이클론(210)으로부터 고온의 유동사가 유입되는 상부 루프실(220); 상기 상부 루프실(220)에 유입된 고온의 유동사 중 일부가 유입되며, 상기 고온의 유동사가 갖는 헌열을 이용하여 가스화 가연성물질의 가스화 반응이 이루어지며, 가스화 반응에 따른 고온의 유동사가 토출되는 가스화 반응기(300); 및상기 가스화 반응기(300)에서 토출된 고온의 유동사가 유입되는 하부 루프실(250)을 포함하며,상기 연소 반응기(100)에는, 상기 상부 루프실(220)에 유입된 고온의 유동사 중 다른 일부가, 상기 하부 루프실(250)에 유입된 고온의 유동사와 함께 다시 유입되어 순환되고, 상기 가스화 반응기(300)에서 상기 연소 반응기(100)로 유입된 유동사는 상기 사이클론(210) 및 상기 상부 루프실(220)을 통하여 상기 가스화 반응기(300)에 재순환되며,상기 상부 루프실(220)에서 상기 연소 반응기(100)를 향하여 분기되는 분기관(L1)과, 상기 상부 루프실(220)에서 상기 가스화 반응기(300)를 향하여 분기되는 분기관(L2)에는 가스 배출관이 각각 구비되고, 상기 가스 배출관 각각에 밸브(V1, V2)가 각각 구비되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스 배출 유로 각각에 구비된 상기 밸브(V1, V2)의 개폐를 통하여 상기 분기관(L1, L2)의 압력이 제어되며, 이를 통하여, 상기 상부 루프실(220)에서 상기 연소 반응기(100)를 향하여 유동하는 상기 다른 일부의 유동사와, 상기 상부 루프실(220)에서 상기 가스화 반응기(300)를 향하여 유동하는 상기 일부의 유동사의 양이 제어되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스 배출 유로 각각에 구비된 상기 밸브(V1, V2)의 개폐를 통하여 상기 분기관(L1, L2)의 압력이 제어되고,상기 밸브(V1, V2)는 상기 연소 반응기(100) 내부의 압력에 상응하게 제어되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 가스화 반응기(300)에서 가스화 가연성물질의 가스화 반응에 따른 가스화 잔유물이 유동사와 함께 상기 하부 루프실(250)로 이송된 후 상기 연소 반응기(100)에 유입되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 1 항 및 제 4 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상부 루프실(220)에서 상기 연소 반응기(100)를 향하여 유동하는 상기 다른 일부의 유동사가 유입되는 제 1 이송 루프실(230)을 더 포함하고, 상기 연소 반응기(100)에는, 상기 제 1 이송 루프실(230)에 유입된 상기 다른 일부의 유동사가, 상기 하부 루프실(250)에 유입된 고온의 유동사와 함께 다시 유입되어 순환되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 7 항에 있어서, 상기 상부 루프실(220)에서 상기 가스화 반응기(300)를 향하여 유동하는 상기 일부의 유동사가 유입되는 제 2 이송 루프실(240)을 더 포함하고, 상기 가스화 반응기(300)에는, 상기 제 2 이송 루프실(240)에서 유입된 상기 일부의 유동사가 유입되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 8 항에 있어서, 상기 상부 루프실(220), 상기 제 1 이송 루프실(230), 상기 제 2 이송 루프실(240) 및 상기 하부 루프실(250) 각각에 유동화 가스가 유입되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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제 9 항에 있어서, 상기 상부 루프실(220), 상기 제 1 이송 루프실(230), 상기 제 2 이송 루프실(240) 및 상기 하부 루프실(250) 각각에 유입된 유동화 가스는, 브로워(B)를 이용하여 외부로 배출되거나, 또는 압력 조절관을 이용하여 상기 사이클론(210)의 후단으로 유입되는, 유동사 분기를 이용한 가스화 장치
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