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하기 구조식 1로 표시되는 비스퓨란 유도체 화합물
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2
제1항에 있어서,R1, R2 및 R3이 서로 같거나 다르고, 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기인 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 화합물
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3
제1항에 있어서,상기 구조식 1로 표시되는 화합물이 하기 화학식 1로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 화합물
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4
제1항에 있어서,상기 비스퓨란 유도체 화합물이 치과용 재료로 사용하기 위한 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 화합물
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5
하기 반응식 1과 같이,화합물 1을 화합물 2와 반응시켜 화합물 3을 제조하는 단계(단계 a); 화합물 3을 반응시켜 화합물 4를 제조하는 단계(단계 b);화합물 4를 반응시켜 화합물 5를 제조하는 단계(단계 c); 및화합물 5를 반응시켜 화합물 6을 제조하는 단계(단계 d); 를포함하는 비스퓨란 유도체 화합물의 제조방법
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6
제5항에 있어서,R1, R2 및 R3이 서로 같거나 다르고, 각각 독립적으로 수소원자 또는 메틸기인 비스퓨란 유도체 화합물의 제조방법
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7
제5항에 있어서,단계 d가 하기 반응식 2와 같고,반응식 2의 반응이 화합물 5와 화합물 7을 반응시켜 화합물 6을 제조하는 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 화합물의 제조방법
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8
제1항의 비스퓨란 유도체 화합물; 개시제; 및필러;를 포함하고,치과용 충전재로 사용하기 위한 것인, 비스퓨란 유도체 조성물
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9
제8항에 있어서,제1항의 화합물 100중량부; 상기 개시제 0
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10
제8항에 있어서,상기 개시제가 광중합 개시제인 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 조성물
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11
제8항에 있어서,상기 개시제가 캄포퀴논(camphoquinone), 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트(ethyl-4-dimethylamino benzoate), 3차 아민 개시제, 디페닐요오도늄 클로라이드, 디페닐요오도늄 헥사플루오로포스페이트, 디페닐요오도늄 테트라플루오로보레이트, 톨릴쿠밀요오도늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 아실, 비스아실 포스핀 산화물, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀 옥시드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-(2,4,4-트리메틸펜틸)포스핀 산화물, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 산화물, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐 포스핀 옥시드, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 및 에틸2,4,6-트리메틸벤질페닐 포스피네이트 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 조성물
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12
제8항에 있어서,상기 필러가 바륨 글라스 필러, 바륨 알루미노실리케이트, 합성 비정질 실리카(synthetic amorphous silica), 결정성 실리카 (crystalline silica), 바륨 실리케이트(barium silicate), 바륨보로실리케이트 (barium borosilicate), 바륨 플루오로알루미노보로실리케이트(barium fluoroaluminoborosilicate), 바륨 알루미노 보로실리케이트(barium aluminoborosilicate), 스트론튬 실리케이드(strontium silicate), 스트론튬 보로실리케이트(strontium borosilicate), 스트론튬 알루미노보로실리케이트(strontium aluminoborosilicate), 칼슘 실리케이트(calcium silicate), 알루미노실리케이트(alumino silicate), 질화규소(silicon nitrides), 이산화 타이타늄(titanium dioxide), 칼슘하이드로실아파타이트(calcium hydroxy apatite), 지르코니아(zirconia), 및 생리활성글라스(Bioactive glass) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 비스퓨란 유도체 조성물
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삭제
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제8항의 비스퓨란 유도체 조성물을 경화시켜 제조된 치과용 충전재
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