| 1 |
1
기판 상에 니트로젠기를 갖는 블록 공중합체의 자기조립으로 마스크 패턴을 형성하는 단계;침지법에 의하여 상기 마스크 패턴을 덮는 고에칭 콘트라스트막을 형성하는 단계; 및상기 고에칭 콘트라스트막이 형성된 마스크 패턴이 형성된 기판을 산소 건식 에칭법으로 에칭하여 상기 기판 상부에 나노패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 고에칭 콘트라스트막은 카보레인 복합체를 포함하고, 상기 카보레인 복합체는 화학적 결합이 가능한 기능기가 포함된 카보레인 유도체를 포함하며, 상기 결합이 가능한 기능기가 포함된 카보레인 유도체는 상기 블록 공중합체와 결합하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 2 |
2
제 1항에 있어서,상기 기판은 유기, 무기 또는 유무기 하이브리드 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제 1항에 있어서,상기 기판 상에 마스크 패턴을 형성하는 단계는,블록 공중합체를 용매에 투입시켜 블록공중합체 코팅액을 제조하는 단계;기판 상에 상기 블록 공중합체 코팅액을 코팅하여 블록 공중합체막을 형성하는 단계; 및상기 블록 공중합체막이 외부장에 의해 유도된 자기조립 패턴을 형성하여 마스크 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 6 |
6
제 5항에 있어서,상기 블록 공중합체는 폴리비닐피롤리돈-블록-폴리스타이렌(polyvinylpyrrolidone-b-polystyrene), 폴리비닐피롤리돈-블록-폴리메틸메타크릴레이트((polyvinylpyrrolidone-b-poly(methyl methacrylate)), 폴리비닐피롤리돈-블록-폴리디메틸실록산(polyvinylpyrrolidone-b-polydimethylsiloxane)
|
| 7 |
7
제 5항에 있어서,상기 기판은 유기, 무기 또는 유무기 하이브리드 기판을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 8 |
8
제 5항에 있어서,상기 블록 공중합체 코팅액을 코팅하는 방법은 스핀 코팅(spin coating), 딥 코팅(dip coating), 슬롯 다이 코팅(slot-die coating), 바코팅(bar coating) 및 스프레이 코팅(spray coating)으로 이루어진 제막 및 코팅법 군 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 9 |
9
제 5항에 있어서,상기 외부장은 용매증기, 열 및 전기장으로 이루어진 상기 블록 공중합체막에 에너지가 가해질 수 있는 에너지원 군 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패턴 제조방법
|
| 10 |
10
제 1항의 제조방법으로 제조된 나노패턴
|
| 11 |
11
제 10항에 있어서,상기 나노패턴은 패턴 선폭의 크기가 5 nm 내지 15 nm 이하인 것을 특징으로 나노패턴
|
