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비전도성 유전체 상에 미세 금속 패턴을 형성하는 방법

  • 기술번호 : KST2019022609
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법, 이에 따라 형성된 금속 패턴 및 상기 금속 패턴이 형성된 소자의 용도에 관한 것이다.
Int. CL H01L 21/768 (2006.01.01) H01L 21/265 (2006.01.01)
CPC H01L 21/76816(2013.01) H01L 21/76816(2013.01) H01L 21/76816(2013.01) H01L 21/76816(2013.01) H01L 21/76816(2013.01)
출원번호/일자 1020170054584 (2017.04.27)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1907074-0000 (2018.10.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20181012) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.04.27)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이홍기 대한민국 인천광역시 연수구
2 전준미 대한민국 충청남도 공주시
3 구석본 대한민국 경기도 부천시 원미구
4 허진영 대한민국 인천광역시 연수구
5 이창면 대한민국 인천광역시 연수구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손민 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, *층(문정동)(특허법인한얼)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0416068-74
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0142592-64
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.04.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0422464-72
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2018-0422463-26
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
6 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2018.07.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0492361-99
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.09.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0933906-03
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.09.19 수리 (Accepted) 1-1-2018-0933905-57
9 등록결정서
Decision to grant
2018.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0662544-35
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번호 청구항
1 1
170 내지 300 nm 파장의 UV를 조사하는 제1공정을 수행하거나, 알칼리금속 또는 알칼리토금속 수산화물 용액으로 처리하는 제2공정을 수행하거나, 또는 상기 2개 공정 모두를 연속적으로 수행하여, 소수성인 비전도성 유전체 표면을 개질하여 친수화하는 제1단계;상기 개질된 표면을 pH 7 내지 10의 중성 내지 알칼리성 용액으로 처리하는 제2단계;상기 제2단계로부터 획득한 비전도성 유전체 표면에 감광성 제1금속 이온 함유 용액을 처리하여 감광성 제1금속 이온을 흡착시키는 제3단계;포토마스크로 마스킹한 후, 상기 감광성 제1금속 이온이 흡착된 표면에 200 내지 450 nm 파장의 빛을 조사하여 마스킹되지 않은 표면의 감광성 제1금속 이온을 선택적으로 산화시키는 제4단계;산화되지 않은 감광성 제1금속 이온을 제2금속 촉매로 치환하여 활성화하는 제5단계;아미노산 용액으로 처리하여 제4단계에서 광조사되어 산화된 부분에 비특이적으로 부착된 제2금속 촉매를 제거하는 제6단계; 및무전해 도금법으로 포토마스킹하여 제1금속 이온이 산화되지 않고 제2금속으로 치환되어 활성화된 표면에 제3금속 패턴을 형성하는 제7단계를 포함하는,비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 비전도성 유전체는 고분자, 유리, 세라믹 및 실리콘 웨이퍼로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
3 3
제1항에 있어서,상기 알칼리금속 또는 알칼리토금속 수산화물 용액의 농도는 2 내지 6 M인 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
4 4
제1항에 있어서,상기 알칼리금속 또는 알칼리토금속 수산화물 용액은 암모늄염, 지방족 아민 화합물 또는 이들 모두를 더 포함하는 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 pH 7 내지 10의 중성 내지 알칼리성 용액은 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 암모니아 또는 이의 염을 0
6 6
제1항에 있어서,상기 감광성 제1금속은 티타늄, 몰리브덴, 텅스텐 및 주석으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
7 7
제1항에 있어서,상기 감광성 제1금속 이온을 함유하는 용액은 염산, 질산, 황산, 술폰산 및 이들의 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 물질을 함유하는 산성 용매를 이용한 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 감광성 제1금속 이온을 함유하는 용액은 말론산, 옥살산, 아세트산, 포름산 및 말릭산으로 구성된 군으로부터 선택되는 카르복실기 또는 포르밀기를 갖는 화합물; 만니톨, 글리콜 및 소르비톨로 구성된 군으로부터 선택되는 당 알코올류 화합물; 및 탄산나트륨 및 보릭산으로 구성된 군으로부터 선택되는 pH 안정제, 또는 이들의 조합을 더 포함하는 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
9 9
제1항에 있어서,상기 제4단계는 주파장이 365 또는 405 nm인 광원을 이용하여 수행하는 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 제5단계의 제2금속 촉매는 팔라듐, 은, 백금 및 금으로 구성된 군으로부터 선택되는 금속을 포함하는 화합물인 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
11 11
제1항에 있어서,상기 제2금속 촉매는 제2금속의 염화물, 황화물 또는 산화물이 염산, 황산, 질산, 술폰산, 포름산, 아세트산 및 이의 유도체로 구성된 군으로부터 선택되는 산성 용액에 용해된 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
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제1항에 있어서,상기 제6단계의 아미노산 용액은 아스파르트산, 글루타민 및 알라닌으로 구성된 군으로부터 선택되는 아미노산을 포함하는 용액인 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
13 13
제1항에 있어서,상기 제6단계의 아미노산 용액은 pH 7 내지 10의 중성 내지 알칼리성 용액인 것인, 비전도성 유전체 상에 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴을 형성하는 방법
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비전도성 유전체 상에 형성된 1 내지 100 ㎛ 선폭의 미세 금속 패턴으로서, 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 것인 금속 패턴
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제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 금속 패턴을 포함하는 경성(Rigid) 및 연성(Flexible) 타입의 인쇄회로기판(printed circuit board; PCB)
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제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 금속 패턴을 포함하는 전자태그(radio-frequency identification; RFID)
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제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 금속 패턴을 포함하는 전자파 차폐용 필터
18 18
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 방법에 의해 형성된 금속 패턴을 포함하는 디스플레이 패널의 전극회로
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 와이엠티주식회사 산업기술개발사업 [RCMS]광선택 촉매 활성 초미세전자회로 제조 기술 개발