1 |
1
챔버 내에 형성된 기재가 로딩되는 기재 로딩부;상기 로딩부 하단에 위치하고, 측정 물질을 주입하는 가스 유입부;상기 가스 유입부 내에 위치하고, 포화 전해질 용액을 포함하는 용액 저장부; 및,상기 로딩부 상단에 위치하고, 상기 기재를 투과한 상기 측정 물질을 검출하여 수분 투과도를 측정하는 가스 검출부;상기 챔버 내 측정 물질의 증기압이 변화되도록, 상기 챔버의 내부에 구비되어 상기 챔버를 가열하는 가열부; 및, 상기 챔버의 일 측면에 구비되는 전처리 챔버를 포함하고,상기 용액 저장부의 상부로부터 상기 포화 전해질 용액 내의 물이 증발하여 상기 챔버 내의 습도를 일정하게 유지하고,상기 전처리 챔버는 상기 챔버에서의 측정 수치의 오차가 감소하도록 상기 기재의 수분을 제거하기 위한 전처리 챔버 가열부를 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,상기 포화 전해질 용액은 알칼리 금속의 염, 알칼리토 금속의 염, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 전해질을 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 측정 물질은 T2O, D2O, HTO, HDO, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 물(H2O)을 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 가열부에 의해 상기 챔버의 온도가 100℃ 이하의 온도로서 가열되는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
6 |
6
제 1 항에 있어서,상기 가스 유입부 내에 순환 팬을 추가 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
7 |
7
삭제
|
8 |
8
제 1 항에 있어서,상기 전처리 챔버는 펌프를 포함하고; 및,상기 전처리 챔버 가열부는 상기 전처리 챔버의 내부 또는 외부에 구비되며,상기 챔버와 상기 전처리 챔버는 게이트 밸브에 의해 연결된 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 장치
|
9 |
9
챔버 내에 기재를 기재 로딩부에 로딩하는 단계;가스 유입부에 측정 물질을 유입시키고, 동시에 용액 저장부에 포화 전해질 용액을 유입시켜 상기 측정 물질 및 상기 포화 전해질 용액 내의 물을 상기 기재에 투과시키는 단계; 및,상기 기재를 투과한 측정 물질을 포함하는 물 분자의 수분 투과도를 가스 검출부에 의해 측정하는 단계를 포함하고,되,상기 기재를 로딩하는 단계 이후에, 상기 챔버 내 측정 물질의 증기압이 변화되도록 상기 챔버 내부에 구비된 가열부로 상기 챔버를 가열하는 단계를 추가 포함하고,상기 기재를 로딩하는 단계 이전에, 상기 챔버에서의 측정 수치의 오차가 감소하도록 상기 챔버의 일측면에 구비되는 전처리 챔버의 전처리 챔버 가열보루 상기 기재 또는 지그(jig)의 수분을 제거하며,상기 포화 전해질 용액 내의 물의 증발에 의해 상기 챔버 내의 습도가 일정하게 유지되는 것인,포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 방법
|
10 |
10
제 9 항에 있어서,상기 측정 물질은 T2O, D2O, HTO, HDO, 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 물(H2O)을 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 방법
|
11 |
11
삭제
|
12 |
12
제 9 항에 있어서,상기 수분 투과도 측정 후 상기 기재의 방사능 물질을 제거하는 것을 추가 포함하는 것인, 포화 전해질 용액을 이용한 수분 투과도의 측정 방법
|