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폴리싱 장치로서,대상체가 안착되어 고정되는 정반을 포함하는 베이스부; 상기 대상체에 접촉되어 폴리싱을 수행하는 헤드부; 및 상기 베이스부 및 상기 헤드부의 구동을 제어하는 제어부를 포함하되,상기 대상체 중 일부는 상기 대상체의 중간 영역이고,상기 대상체 중 다른 일부는 X축 방향에 대한 상기 대상체의 양측 단부 영역이고,상기 베이스부는 상기 헤드부에 대하여 상대적으로 수평 방향 이동 가능하고,상기 제어부는,상기 정반 상의 대상체 중 일부에 대하여 상기 헤드부가 X축 방향을 따라 지그재그 형태로 상대적으로 이동되도록 제어하고,상기 대상체 중 다른 일부에 대하여 상기 헤드부가 불규칙적인 경로를 따라 상대적으로 이동되도록 제어하고,상기 헤드부가 상기 대상체에 대하여 상대적으로 이동되어 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나에 진입하고 나면, 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서 정반사형 이동을 하도록 상기 헤드부를 제어하고,상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정되며,상기 지그재그 형태는, 상기 헤드부가 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측으로 교번하여 이동하면서 X축 방향을 따라 상대적으로 이동되는 형태인 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 정반은 상기 대상체의 열을 냉각할 수 있는 냉각수라인을 포함하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 베이스부는 X축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 정반을 이동시키는 Y축 이송 구동부를 포함하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 헤드부는 X축 방향으로 접촉헤드를 이송시키는 X축 이송 구동부와 Y축 방향으로 상기 접촉헤드를 이송시키는 Y축 이송 구동부를 포함하는 것인 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 정반은 석정반인 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 베이스부는 상기 정반의 일측과 이웃하여 배치되는 드레싱부를 포함하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 헤드부는,상기 대상체에 접촉되는 접촉헤드;상기 접촉헤드에 하향 압력을 가하는 가압부;상기 접촉헤드를 회전시키는 회전 구동부; 및상기 접촉헤드 상에 배치되어 상기 가압부의 가압력 및 상기 회전 구동부의 회전력을 상기 접촉헤드에 전달하는 가압헤드를 포함하는 것인, 폴리싱 장치
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제7항에 있어서,상기 가압헤드는 상기 대상체의 열을 냉각 할 수 있는 냉각 순환라인을 가지는 것인, 폴리싱 장치
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제7항에 있어서,상기 가압헤드에는 연마제 공급 노즐이 배치되도록 중앙 부분에 상하방향으로 통공된 연마제 공급 홀이 형성되는 것인, 폴리싱 장치
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제7항에 있어서,상기 접촉헤드는 상기 가압헤드에 대하여 탈착 가능하게 장착되는 것인, 폴리싱 장치
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제7항에 있어서,상기 가압헤드는 상기 대상체의 상면의 면 기울기를 따라 상기 접촉헤드를 기울임 정렬시키는 자동 조심(self-aligning) 구조를 포함하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 상기 헤드부의 중심이 Y축 방향에 대한 상기 정반 상의 대상체의 양측 끝단까지 이동되도록 상기 헤드부의 상대적인 이동을 제어하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격이 접촉헤드의 반경보다 작도록 상기 베이스부 및 상기 헤드부 중 적어도 하나를 제어하는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 대상체의 양측 단부 영역은 X축 방향에 대하여 상기 대상체의 양측 끝단으로부터 접촉헤드의 반경에 대응하는 범위 이상의 영역인 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 불규칙적인 경로는, 상기 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위가 상기 헤드부의 X축 방향으로의 교번 주기에 대응하는 교번 간격의 절반의 배수에 대응되지 않도록 설정된 상태에서, 상기 정반사형 이동이 이루어짐으로써 제공되는 것인, 폴리싱 장치
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제1항에 있어서,상기 제어부는, 미리 설정된 시간이 경과하면 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 영역 범위 내에서의 정반사형 이동 제어를 종료하고 상기 헤드부가 상기 중간 영역을 통과하여 상기 양측 단부 영역 중 다른 하나에 진입하도록 제어하는 것인, 폴리싱 장치
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제20항에 있어서,상기 미리 설정된 시간은, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 적어도 2회 왕복하는 데 소요되는 시간 이상으로 설정되는 것인, 폴리싱 장치
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제21항에 있어서,상기 정반의 양측 단부 영역의 X축 방향으로의 범위는, 상기 헤드부가 상기 정반사형 이동을 통해 상기 양측 단부 영역 중 어느 하나의 X축 방향으로의 양측 경계부를 왕복할 때마다 확장되는 것인, 폴리싱 장치
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