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일측에 기설정된 배플(Baffle)의 시야각(FOV, Field of view)을 가지고, 타측에 이미지 센서가 부착되는 배플 튜브(Baffle tube); 및 상기 배플 튜브의 내부에 위치하고, 상기 배플의 시야각을 초과하는 입사 각도를 갖는 미광(Stray ray)의 입사 광선(Incident ray)을 반사시키는 적어도 하나의 반사형 곡선 베인(Reflective curve vane)을 포함하고, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 미광의 중심 광선과 수직인 접선(Tangential line)과 상기 미광의 입사 광선이 교차하는 교차점(Intersection point)이 축적된 곡선 프로파일을 가지는, 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 일면이 미러 코팅(mirror coating)되어 상기 미광의 입사 광선을 반사시키는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 일면에 미러 코팅(mirror coating)되어 상기 미광의 입사 광선을 반사시키고, 타면에 블랙 코팅(black coating)되어 상기 미광의 반사 광선을 흡수시키는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인의 베인 지점과 연결되고, 상기 미광을 흡수시키는 적어도 하나의 직선 베인을 더 포함하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서,상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 이미지 센서의 크기, 상기 배플의 시야각 및 상기 배플의 직경을 이용하여 산출되는 곡선 프로파일(Curve profile)을 가지는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 미광의 입사 각도가 90도 미만이면, 입사 각도가 증가된 미광의 입사 광선과 상기 접선이 교차하는 교차점이 축적된 곡선 프로파일을 가지는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서,상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 교차점이 상기 배플의 외부에 위치하는 경우, 새로운 베인 지점부터 축적된 곡선 프로파일을 가지는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 교차점이 상기 배플의 외부에 위치하는 경우, 상기 미광의 입사 광선과 시야각 경계가 교차하는 새로운 베인 지점부터 축적된 곡선 프로파일을 가지는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 장치
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일측에 기설정된 배플의 시야각을 가지는 배플 튜브; 상기 배플 튜브의 타측에 부착되고, 상기 배플의 시야각을 통해 입사되는 광선을 센싱하는 이미지 센서; 및 상기 배플 튜브의 내부에 위치하고, 상기 배플의 시야각을 초과하는 입사 각도를 갖는 미광의 입사 광선을 반사시키는 적어도 하나의 반사형 곡선 베인을 포함하고, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 상기 미광의 중심 광선과 수직인 접선(Tangential line)과 상기 미광의 입사 광선이 교차하는 교차점(Intersection point)이 축적된 곡선 프로파일을 가지는, 반사형 곡선 베인을 이용한 이미징 장치
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일측에 기설정된 배플의 시야각을 가지고 타측에 이미지 센서가 부착되는 배플의 시야각을 초과하는 입사 각도를 갖는 미광을 입사 각도마다 시뮬레이션하는 단계; 상기 시뮬레이션된 미광의 입사 광선을 반사시키는 곡선 프로파일을 산출하는 단계; 및상기 산출된 곡선 프로파일에 따라 적어도 하나의 반사형 곡선 베인을 생성하는 단계를 포함하고, 상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 미광의 중심 광선과 수직인 접선과 상기 미광의 입사 광선이 교차하는 교차점이 축적된 곡선 프로파일을 산출하는, 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 배플의 시야각을 달성하기 위해 필요한 상기 배플의 길이를 계산하는 단계를 더 포함하고, 상기 시뮬레이션하는 단계는, 상기 이미지 센서의 크기, 상기 배플의 시야각, 상기 배플의 직경, 및 상기 계산된 배플의 길이를 이용하여 상기 미광을 시뮬레이션하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 시뮬레이션된 미광의 입사 광선을 상기 배플 외부로 반사시키는 접선을 계산하고, 상기 계산된 접선과 상기 입사 광선이 교차하는 교차점을 축적하여 곡선 프로파일을 산출하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 이미지 센서의 크기, 상기 배플의 시야각 및 상기 배플의 직경을 이용하여 곡선 프로파일을 산출하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 미광의 입사 각도가 90도 미만이면, 입사 각도가 증가된 미광의 입사 광선과 접선이 교차하는 교차점이 축적된 곡선 프로파일을 산출하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 교차점이 상기 배플의 외부에 위치하는 경우, 새로운 베인 지점부터 축적된 곡선 프로파일을 산출하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서, 상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 교차점이 상기 배플의 외부에 위치하는 경우, 상기 미광의 입사 광선과 시야각 경계가 교차하는 새로운 베인 지점부터 축적된 곡선 프로파일을 산출하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 일면이 미러 코팅(mirror coating)되어 상기 미광의 입사 광선을 반사시키는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인은, 일면에 미러 코팅(mirror coating)되어 상기 미광의 입사 광선을 반사시키고, 타면에 블랙 코팅(black coating)되어 상기 미광의 반사 광선을 흡수시키는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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제11항에 있어서,상기 배플은, 상기 적어도 하나의 반사형 곡선 베인의 베인 지점과 연결되고, 상기 미광을 흡수시키는 적어도 하나의 직선 베인을 더 포함하는 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법
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사용자로부터 이미지 센서의 크기, 배플의 시야각 및 배플의 직경을 입력받는 단계; 상기 입력된 이미지 센서의 크기, 배플의 시야각 및 배플의 직경을 이용하여, 일측에 기설정된 배플의 시야각을 가지고 타측에 이미지 센서가 부착되는 배플의 시야각을 초과하는 입사 각도를 갖는 미광을 입사 각도마다 시뮬레이션하는 단계; 상기 시뮬레이션된 미광의 입사 광선을 반사시키는 곡선 프로파일을 산출하는 단계; 및상기 산출된 곡선 프로파일과 매칭되는 적어도 하나의 반사형 곡선 베인에 대한 베인 설계 정보를 사용자에게 제공하는 단계를 포함하고,상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 미광의 중심 광선과 수직인 접선과 상기 미광의 입사 광선이 교차하는 교차점이 축적된 곡선 프로파일을 산출하는, 반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제공 방법
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반사형 곡선 베인을 이용한 배플 제조 방법을 컴퓨터에 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 있어서, 일측에 기설정된 배플의 시야각을 가지고 타측에 이미지 센서가 부착되는 배플의 시야각을 초과하는 입사 각도를 갖는 미광을 입사 각도마다 시뮬레이션하는 단계; 상기 시뮬레이션된 미광의 입사 광선을 반사시키는 곡선 프로파일을 산출하는 단계; 및상기 산출된 곡선 프로파일에 따라 적어도 하나의 반사형 곡선 베인을 생성하는 단계를 실행시키고,상기 곡선 프로파일을 산출하는 단계는, 상기 미광의 중심 광선과 수직인 접선과 상기 미광의 입사 광선이 교차하는 교차점이 축적된 곡선 프로파일을 산출하도록, 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체
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