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가변 칼라 필터 필름 및 변형률 측정 장치

  • 기술번호 : KST2019023278
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 가변 칼라 필터 및 변형률 측정 장치를 제공한다. 이 가변 칼라 필터는 광에 대하여 투과성을 가지고 제1 굴절률을 가지고 신축성을 가지는 투명 신축 필름; 및 외부로 돌출되지 않도록 상기 투명 신축 필름 내부에 완전히 매몰되고 비신축성을 가지고 상기 제1 굴절률보다 높은 제2 굴절률을 가지는 주기 패턴을 포함한다.
Int. CL G02B 5/20 (2006.01.01) G01N 21/25 (2006.01.01)
CPC G02B 5/20(2013.01) G02B 5/20(2013.01)
출원번호/일자 1020160012177 (2016.02.01)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1733343-0000 (2017.04.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20170508) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020160167032;
심사청구여부/일자 Y (2016.02.01)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌 대한민국 서울특별시 서초구
2 최학종 대한민국 서울특별시 성북구
3 허주혁 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 누리 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 **-*(역삼동, IT빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2016.02.01 수리 (Accepted) 1-1-2016-0104266-99
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2016.08.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2016.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0132785-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.10.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0731476-56
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.12.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-1206292-69
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-1206328-14
7 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2016.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2016-1206220-93
8 등록결정서
Decision to grant		 2017.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0278330-85
9 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2019.04.03 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2019-0343342-69
10 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document		 2019.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0059406-46
11 [반려요청]서류반려요청(반환신청)서
[Request for Return] Request for Return of Document		 2019.04.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0360076-62
12 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2019.04.09 수리 (Accepted) 1-1-2019-0360125-12
13 서류반려통지서
Notice for Return of Document		 2019.04.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2019-0061813-18
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
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번호 청구항
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희생 기판에 비신축성 및 고굴절률을 가지는 제1 유전체층을 증착하는 단계;상기 제1 유전체층을 패터닝하여 상기 희생 기판 상에 주기 패턴을 형성하는 단계; 상기 주기 패턴 상에 신축성 및 저굴절률을 가지는 제2 유전체층을 형성하는 단계; 상기 희생 기판을 제거하여 상기 주기 패턴을 노출시키는 단계; 및상기 노출된 주기 패턴 상에 신축성 및 저굴절률을 가지는 제3 유전체층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 제1 유전체층을 패터닝하여 상기 희생 기판 상에 주기 패턴을 형성하는 단계는:상기 제1 유전체층 상에 희생 폴리머 마스크층과 실리콘 함유 레지스트층를 차례로 코팅하고 임프린팅 기법을 이용하여 상기 실리콘 함유 레지스트층에 역 패턴(line inverse pattern)을 형성하는 단계;상기 역 패턴이 형성된 실리콘 함유 레지스트를 마스크로 상기 희생 폴리머 마스크층을 식각하여 상기 제1 유전체층의 상부면을 노출시키는 단계;상기 노출된 제1 유전체층 상에 금속 마스크층을 증착하는 단계;상기 희생 폴리머 마스크층을 리프트-오프 기법을 사용하여 제거하고 금속 마스크 패턴을 형성하는 단계;상기 금속 마스크 패턴을 마스크로 하여 상기 제1 유전체층을 식각하여 주기 패턴을 형성하는 단계; 및상기 금속 마스크 패턴을 제거하여 상기 주기 패턴을 노출하는 단계;을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 희생 기판은 실리콘 기판, 상기 실리콘 기판 상에 적층된 실리콘산화막, 및 상기 실리콘 산화막 상에 적층된 니켈층을 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 제2 유전체층 및 제3 유전체층은 폴리디메틸실록산(Polydimethylsiloxane; PDMS), PFPE(perfluoropolyether), 에폭시(epoxy) 수지, 라텍스(latex) 고무 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터의 제조 방법
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제 10 항에 있어서,상기 제1 유전체층은 타이타늄산화물(TiO2), 지르코늄산화물(ZrO2), 아연산화물(ZnO), 실리콘(Si), 그리고 제마늄(Ge) 중에서 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가변 칼라 필터의 제조 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020170091505 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 고려대학교 산학협력단 미래유망파이오니어 사업 20 nm 급 3차원 테라스케일 메타물질 구현을 위한 공정·소재 기술 개발
2 과학기술정보통신부 고려대학교 산학협력단 중견연구 플라즈모닉 블랙나노구조를 위한 복합나노공정 기술 및 광·에너지 응용기술 개발