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다층으로 규칙적으로 배열된 균일한 크기의 복수개의 공기 캐비티(cavities); 및 상기 캐비티를 둘러싸고 있으며 유리전이 온도 이상의 온도에 노출되면 비가역적으로 수축되고, 수축 정도는 노광된 자외선 조사량에 의해 정해지는 고분자 프레임을 포함하는 역오팔 광학 구조체로서, 상기 구조체는 고분자 프레임이 비가역적으로 수축되면 구조색(반사 스펙트럼의 파장)이 청색전이(blue-shift) 되는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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제 1항에 있어서, 상기 캐비티는 전체 구조체 대비 분율이 20%까지 수축되는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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제 1항에 있어서, 상기 고분자는 네거티브 또는 포지티브 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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제 1항에 있어서, 상기 구조체는 자외선 노출양에 의존하여 구조색의 변색 온도 및 구조색의 컬러가 달라지는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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제 1항에 있어서, 상기 구조체는 자외선으로 노광된 고분자 프레임의 자외선 영역을 포함하되, 상기 구조체가 상기 고분자의 유리전이온도 이상에 노출되면, 노광된 자외선 양, 상기 노출온도 또는 노출 시간에 따라 상기 자외선 영역의 구조색(반사스펙트럼)이 상기 유리전이 온도에 노출되기 전의 자외선 영역의 구조색에 비해 청색 전이 되는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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6
제 1항에 있어서, 상기 구조체는 자외선으로 노광된 고분자 프레임의 자외선 영역과 노광되지 않은 비자외선 영역을 포함하되, 상기 구조체가 상기 고분자의 유리전이온도 이상에 노출되면, 자외선 영역과 비자외선 영역의 구조색(반사 스펙트럼의 파장)이 서로 다른 2색 광학구조체인 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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7
제 1항에 있어서, 상기 구조체는 자외선으로 노광되지 않은 고분자 프레임의 비자외선 영역, 노광된 제 1 자외선 영역, 노광된 제 n 자외선 영역을 포함하되, 상기 구조체가 상기 고분자의 유리전이온도 이상에 노출되면, 비자외선 영역, 제 1자외선 영역 및 제 n 자외선 영역의 구조색(반사 스펙트럼의 파장)이 서로 다른 것을 특징으로 하는 역 오팔 광학 구조체
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제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 구조체는 노광된 자외선 양, 상기 노출온도 또는 노출 시간에 따라 상기 비자외선 영역, 제 1자외선 영역 및 제 n 자외선 영역의 구조색이 서로 다른 다색 광학구조체인 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체
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기판 위에 포토레지스트층을 형성하는 단계 ; 상기 포토레지스트층 상에 오팔구조로 나노입자를 형성하는 단계 ; 상기 포토레지스트층에 열을 가하여 상기 나노입자를 상기 포토레지스트층에 임베디드(embeded) 시키는 단계 ; 자외선을 조사하는 단계 ; 및 상기 나노입자를 제거하는 단계를 포함하는, 다층으로 규칙적으로 배열된 균일한 크기의 복수개의 공기 캐비티(cavities); 및 상기 캐비티를 둘러싸고 있으며 유리전이 온도 이상의 온도에 노출되면 비가역적으로 수축되고, 수축 정도는 노광된 자외선 조사량에 의해 정해지는 고분자 프레임을 포함하는 역오팔 광학 구조체로서, 상기 구조체는 고분자 프레임이 비가역적으로 수축되면 구조색(반사 스펙트럼의 파장)이 청색전이(blue-shift) 되는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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10
기판 위에 오팔구조로 나노입자를 형성하는 단계 ; 포토레지스트층을 상기 나노입자 사이의 공극에 충진하는 단계 ; 자외선을 조사하는 단계 ; 및 상기 나노입자를 제거하는 단계를 포함하는, 다층으로 규칙적으로 배열된 균일한 크기의 복수개의 공기 캐비티(cavities); 및 상기 캐비티를 둘러싸고 있으며 유리전이 온도 이상의 온도에 노출되면 비가역적으로 수축되고, 수축 정도는 노광된 자외선 조사량에 의해 정해지는 고분자 프레임을 포함하는 역오팔 광학 구조체로서, 상기 구조체는 고분자 프레임이 비가역적으로 수축되면 구조색(반사 스펙트럼의 파장)이 청색전이(blue-shift) 되는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 포토레지스트층은 네거티브 또는 포지티브 포토레지스트인 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 방법은 자외선 조사량을 조절하여 구조체의 유리전이온도롤 조절해 열처리에 의한 청색전이 속도를 제어하는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 방법은 자외선 조사량을 조절하여 구조색의 변색 온도 및 구조색의 컬러를 제어하는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 자외선 조사 단계는 포토마스크를 사용하여 자외선 조사 영역과 비조사 영역을 구분하여 조사하는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 자외선 조사 단계는 포토마스크를 사용하여 자외선 영역과 비자외선 영역을 구분하여 조사하고, 상기 자외선 영역은 제 1 자외선 영역에서부터 제 n 자외선 영역으로 구분되도록 조사하는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 나노입자 제거 단계 이후에, 상기 방법은 상기 광학구조체에 자외선을 추가로 조사하여 패턴 안정성을 높이는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 구조체의 제조방법
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다층으로 규칙적으로 배열된 균일한 크기로 이루어진 복수개의 공기 캐비티(cavitys); 및 상기 캐비티를 둘러싸고 있으며 유리전이 온도 이상의 온도에 노출되면 비가역적으로 수축되고, 수축 속도는 노광된 자외선 조사량에 의해 정해지는 고분자 프레임을 포함하는 역오팔 광학 센서로서, 상기 센서는 고분자 프레임이 수축되면 변색된 구조색으로 온도를 기록하는 것을 특징으로 하는 역오팔 광학 센서
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제 17항에서, 상기 고분자 프레임은 비자외선 영역과 자외선 영역을 포함하고, 상기 자외선 영역은 제 1 자외선 영역에서부터 제 n 자외선 영역을 포함하되, 상기 비자외선 영역과 자외선 영역은 소정 온도 이상에서 변색된 서로 다른 구조색으로 온도를 기록하는 것을 특징으로 하는 역 오팔 광학 센서
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제 17항에서, 상기 고분자 프레임이 네거티브 포토레지스트인 경우, 상기 센서는 제 n 자외선 영역, n-1 자외선 영역 … 제 2 자외선 영역, 제 1 자외선 영역, 비자외선 영역으로 갈수록 구조색의 청색전이가 큰 것을 특징으로 하는 역 오팔 광학 센서
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제 17항에서, 상기 고분자 프레임이 포지티브 포토레지스트인 경우, 상기 센서는 제 n 자외선 영역, n-1 자외선 영역 … 제 2 자외선 영역, 제 1 자외선 영역, 비자외선 영역으로 갈수록 구조색의 청색전이가 작은 것을 특징으로 하는 역 오팔 광학 센서
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