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희토류 금속 이온 수용액을 준비하는 단계(단계 1); 및다공성 금속이 형성된 기판을 상기 희토류 금속이온 수용액에 침지시키고, 상기 다공성 금속을 작업 전극으로 하여, 포화 칼로멜 기준전극(saturated calomel electrode, SCE) 대비 작업 전극에 -0
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제1항에 있어서, 상기 희토류 금속은 이트륨(Y), 란타넘(La), 세륨(Ce), 프라세오디뮴(Pr), 네오디뮴(Nd), 사마륨(Sm), 유로퓸(Eu), 가돌리늄(Gd), 터븀(Tb), 디스프로슘(Dy), 홀뮴(Ho), 톨륨(Tm), 이터븀(Yb), 루테늄(Lu) 및 에르븀(Er)으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 희토류 금속은 세륨(Ce) 및 사마륨(Sm)인 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서,상기 다공성 금속은 금(Au), 은(Ag), 코발트(Co), 구리(Cu), 철(Fe), 니켈(Ni), 팔라듐(Pd), 백금(Pt) 및 스테인리스 스틸로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속인 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서,상기 다공성 금속은 50 nm 이상의 기공이 형성된 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 실리콘 기판, YSZ(yttria-stabilized zirconia) 기판, 또는 알루미나 기판인 것을 특징으로 하는, 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2는, 산소, 질소 및 아르곤으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 혼합 기체를 상기 희토류 금속이온 수용액에 공급하여 전기화학도금을 수행하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2는 10℃ 내지 100℃의 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서,상기 단계 2는 30초 내지 30분 동안 수행하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계 2에서 제조된 금속-세라믹 다공성 복합 나노구조체를 건조시키는 단계(단계 3)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는,제조 방법
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