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진공 챔버 내에 호스트 물질 및 타겟을 제공하되, 상기 타겟은 제1 물질을 포함하는 것;상기 타겟에 레이저를 조사하여 이온빔을 발생시키는 것; 및상기 이온빔을 상기 호스트 물질에 조사하여 상기 호스트 물질을 상기 제1 물질로 도핑하되, 상기 이온빔이 상기 호스트 물질에 조사되는 동안 상기 호스트 물질을 회전시키는 것을 포함하는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 이온빔은 제1 입자 및 상기 제1 입자 비해 적어도 10MeV 이상 높은 에너지를 갖는 제2 입자를 포함하는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 이온빔은 제1 방향과 평행한 진행방향을 갖고,상기 호스트 물질은 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향과 평행한 회전축을 중심으로 회전하는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 호스트 물질과 상기 타겟 사이의 거리는 상기 호스트 물질이 회전하는 동안 일정하게 유지되는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 호스트 물질은 원통의 형상을 갖는 부분을 포함하는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 타겟은 레이저가 집속되는 제1 면 및 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 갖고,상기 이온빔은 상기 제2 면으로부터 상기 타겟과 멀어지는 방향으로 진행되는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 타겟에 레이저를 조사하기에 앞서, 상기 타겟의 표면에 불활성 기체 이온을 조사하는 것을 포함하는 이온 주입 방법
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제1 항에 있어서,상기 타겟은 제2 물질을 더 포함하되,상기 타겟에 레이저를 조사하는 동안 상기 레이저가 집속되는 위치를 변화시켜 상기 호스트 물질을 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질로 도핑하는 것을 포함하는 이온주입 방법
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진공 챔버 내에 호스트 물질 및 타겟을 제공하되, 상기 타겟은 제1 물질을 포함하는 것;상기 타겟에 레이저를 조사하여 이온빔을 발생시키되, 상기 이온빔은 제1 입자 및 제2 입자를 포함하고, 상기 제1 입자는 상기 제2 입자 비해 적어도 10MeV 이상 높은 에너지를 갖는 것; 및상기 이온빔을 상기 호스트 물질에 조사하여 상기 호스트 물질을 상기 제1 물질로 도핑하는 것을 포함하는 이온 주입 방법
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제9 항에 있어서,상기 이온빔 내에 상기 제1 입자와 실질적으로 동일한 에너지를 갖는 입자들의 수는 상기 제2 입자와 실질적으로 동일한 에너지를 갖는 입자들의 수에 비해 작은 이온 주입 방법
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제9 항에 있어서,상기 이온빔은 상기 제1 입자와 보다 작은 에너지를 갖고, 상기 제2 입자보다 큰 에너지를 갖는 제3 입자를 더 포함하되,상기 제3 입자와 실질적으로 동일한 에너지를 갖는 입자들의 수는 상기 제1 입자와 실질적으로 동일한 에너지를 갖는 입자들의 수에 비해 크고, 상기 제2 입자와 실질적으로 동일한 에너지를 갖는 입자들의 수에 비해 작은 이온 주입 방법
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12
제9 항에 있어서,상기 이온빔은 제1 방향과 평행한 진행방향을 갖고,상기 호스트 물질은 상기 이온빔이 상기 호스트 물질에 조사되는 동안, 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향과 평행한 회전축을 중심으로 회전하는 이온 주입 방법
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13
제9 항에 있어서,상기 타겟은 레이저가 집속되는 제1 면 및 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 갖고,상기 이온빔은 상기 제2 면으로부터 상기 타겟과 멀어지는 방향으로 진행되는 이온 주입 방법
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제13 항에 있어서,상기 호스트 물질과 상기 타겟 사이의 거리는 상기 호스트 물질이 회전하는 동안 일정하게 유지되는 이온 주입 방법
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챔버;상기 챔버의 내부로 레이저를 출력하는 광원부;상기 챔버 내에 배치되며, 상기 레이저를 수용하여 이온빔을 출력하는 타겟부;상기 챔버 내에 배치되며, 호스트 물질에 상기 이온빔이 조사되도록 상기 호스트 물질을 지지하는 지지부를 포함하되,상기 지지부는 상기 호스트 물질에 상기 이온빔이 조사되는 동안 상기 호스트 물질을 회전시키도록 구성되는 이온 주입 장치
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제15 항에 있어서,상기 지지부는 상기 이온빔의 진행 방향과 수직한 방향의 회전축을 중심으로 상기 호스트 물질을 회전시키도록 구성되는 이온 주입 장치
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제15 항에 있어서,상기 챔버 내의 이온 발생기 및 상기 챔버의 내부로 불활성 가스를 공급하는 가스공급기를 더 포함하는 이온 주입 장치
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제15 항에 있어서,상기 챔버와 연결된 진공 펌프를 더 포함하는 이온 주입 장치
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