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금속의 균일 성장 및 식각의 기학적 비가역성을 이용한 임베디드 금속 나노구조 및 그 제작 방법

  • 기술번호 : KST2019024230
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 무전해 도금을 통해 기판 상에 금속 물질을 도포하고, 식각을 통한 금속 박막의 일부를 제거하여 기판에 임베디드된 형태의 금속 나노구조를 형성하는 금속의 균일 성장 및 식각의 기학적 비가역성을 이용한 임베디드 금속 나노구조 및 그 제작 방법에 관한 것으로, 종래의 리소그래피 공정을 개선시킨 기술을 제공할 수 있다.
Int. CL C23C 18/16 (2006.01.01) C23C 18/31 (2006.01.01)
CPC C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01) C23C 18/1689(2013.01)
출원번호/일자 1020170075573 (2017.06.15)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-1891440-0000 (2018.08.17)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180823) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.06.15)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정용 미국 대전광역시 유성구
2 강주훈 대한민국 대구광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 양성보 대한민국 서울특별시 강남구 선릉로***길 ** (논현동) 삼성빌딩 *층(피앤티특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.06.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0570577-70
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.01.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0027998-45
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0147884-52
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0433529-09
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.05.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0433530-45
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.05.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0318776-96
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.06.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0545032-68
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2018-0545031-12
10 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.06.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0400008-18
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
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번호 청구항
1 1
금속의 균일 성장 및 식각의 기학적 비가역성을 이용한 임베디드 금속 나노구조 형성 방법에 있어서,나노 요철 패턴을 포함하는 기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 무전해 도금에 의해 상기 나노 요철 패턴 중 만입부에 수직 성장되는 금속 물질에 대한 등방성 증착(conformal deposition)을 이용하여 금속 박막을 형성하는 단계; 및상기 나노 요철 패턴 중 상기 만입부에 채워지는 금속 물질을 기반으로, 등방성 식각(isotropic etching)의 기학적 비가역성을 이용하여 상기 만입부 및 돌출부의 경계선인 돌출부 라인 상부에 형성된 금속 박막을 균일하게 제거하여 임베디드된 형태의 금속 나노구조를 형성하는 단계를 포함하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 금속 박막을 형성하는 단계는상기 무전해 도금을 통한 상기 나노 요철 패턴 중 상기 돌출부 및 상기 만입부에 성장되는 상기 금속 물질을 이용하여 평평한 표면의 상기 금속 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 금속 박막을 형성하는 단계는상기 돌출부에 형성되는 상기 금속 물질의 속도에 비해 더 빠른 상기 만입부에 형성되는 상기 금속 물질의 속도를 이용하여 일정 시간 경과 후의 상기 평평한 표면의 금속 박막을 형성하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
4 4
제3항에 있어서,상기 금속 박막을 형성하는 단계는알루미늄(Al)의 상기 금속 물질로 상기 무전해 도금을 수행하는 것을 특징으로 하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
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삭제
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제4항에 있어서,상기 금속 박막을 형성하는 단계는상기 무전해 도금 시, 성장 시간 및 온도 제어를 통해 형태 및 결정성 제어의 상기 금속 박막을 형성하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
7 7
삭제
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제1항에 있어서,상기 금속 나노구조를 형성하는 단계는상기 만입부에 상기 금속 물질이 채워지는 상기 임베디드된 형태의 금속 나노구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 임베디드 금속 나노구조 형성 방법
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10 10
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11 11
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12 12
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13 13
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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1 미래창조과학부 나노종합기술원 open innovation Lab project sub 100nm 비용한계극복 나노구조화 설계 및 평가