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메타표면;상기 메타표면에 배치되고, 제1 공진 주파수를 갖는 제1 공진부; 및상기 메타표면에 배치되고, 상기 제1 공진 주파수와 다른 제2 공진 주파수를 갖는 제2 공진부;를 포함하고,상기 메타표면으로 입사되는 제어파에 의해, 상기 메타표면으로 입사되는 입사파의 중심 주파수가 변환되는, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 1 항에 있어서,상기 변환된 입사파의 중심 주파수는, 상기 제1 공진 주파수와 상기 제2 공진 주파수 사이의 소정의 주파수인, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 1 항에 있어서,반 절연물질을 포함하고, 상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부가 서로 이격되어 배치된 상면을 포함하는 기판; 및상기 기판, 상기 제1 공진부 및 상기 제2 공진부 상에 배치되고, 개구부를 갖는 다수의 유전체층;을 포함하고,상기 기판은 상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부 사이에 배치된 노출면을 포함하고,상기 다수의 유전체층의 개구부는 상기 기판의 노출면 상에 형성된, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 3 항에 있어서,상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부는 선폭이 일정한 링 형상의 금속이고, 절단된 일 부분을 갖고,상기 제1 공진부의 선폭은 상기 제2 공진부의 선폭과 다르고,상기 제1 공진부는 상기 제2 공진부를 둘러싸도록 배치된, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 4 항에 있어서,상기 개구부의 최단 폭과, 상기 개구부를 통해 노출되는 상기 노출면의 양단 사이의 이격 거리는, 상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부 사이의 이격 거리와 상기 제1 공진부의 양단 사이의 이격 거리보다 큰, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 3 항에 있어서,상기 기판 상에 배치되고, 상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부를 덮는 패시베이션층을 포함하고, 상기 다수의 유전체층은 상기 패시베이션층 상에 배치된, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 3 항에 있어서,상기 개구부는 상기 노출면에 인접한 상기 제1 공진부의 일부 영역과 상기 노출면에 인접한 상기 제2 공진부의 일부 영역 상에 형성된, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 3 항에 있어서,상기 다수의 유전체층은 한 쌍의 제1 유전체층과 제2 유전체층이 다수로 적층되고,상기 제1 유전체층을 구성하는 물질과 상기 제2 유전체층을 구성하는 물질은 서로 다른, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 3 항에 있어서,제어파가 상기 노출면으로 입사되면, 상기 노출면을 포함한 상기 기판의 일부 영역이 전도성으로 변화되어 상기 제1 공진부와 상기 제2 공진부가 전기적으로 연결되는, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,제어파가 입사되는 시간에서 입사파가 입사되는 시간을 뺀 시간으로 정의되는 지연 시간이, 0보다 크거나 같고 소정 시점보다 작거나 같으면, 상기 메타표면은 상기 변환된 입사파의 중심 주파수를 갖는 출력파를 생성하고,상기 소정 시점은 상기 입사파의 파워(power)가 최대값에서 3dB 떨어진 시점인, 메타표면을 포함한 메타물질
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제 10 항에 있어서,상기 지연 시간이 0보다 작으면, 상기 메타표면은 상기 입사파를 변조하는, 메타표면을 포함한 메타물질
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