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티타늄 금속 또는 티타늄 합금으로 이루어진 임플란트 본체를 양극산화하여 산화티타늄 나노튜브를 형성하는 단계와;상기 산화티타늄 나노튜브를 제거하여 상기 임플란트 본체 표면에 요홈(groove)을 형성하는 단계를 통해 상기 임플란트 본체가 구성되며,상기 요홈은 직경이 10nm 내지 1,000nm 크기를 가지는 반구상의 형상을 지니며, 반구상의 상기 요홈은 표면에 수 나노미터 크기의 미세기공(pore)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 양극산화하여 산화티타늄 나노튜브를 형성하는 단계는,플루오라이드(F-) 이온을 함유하는 전해액에 상기 임플란트본체를 침지시켜 양극산화하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 2항에 있어서,플루오라이드 이온을 함유하는 상기 전해액은,플루오라이드 이온을 함유하는 염; 무기산, 유기산, 고분자알코올 중 1종 이상의 용매;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 염은, 불화수소(HF), 플루오린화나트륨(NaF), 플루오르화암모늄(NH4F) 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 3항에 있어서,상기 용매는, 인산(H3PO4), 황산(H2SO4), 질산(HNO3), 글리세롤(glycerol), 에틸렌글리콜(ethylene glycol) 중 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 임플란트 본체 표면에 상기 요홈을 형성하는 단계 이후에,상기 임플란트 본체를 열처리하여 상기 임플란트 본체의 표면에 10nm 내지 1,000nm 두께의 산화막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 6항에 있어서,상기 열처리는 200℃ 내지 1200℃에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 산화티타늄 나노튜브의 제거는 상기 임플란트 본체를 과산화수소수(H2O2)에 침지시켜 초음파 세척하여 제거하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 산화티타늄 나노튜브의 제거는 유기산 또는 염기 수용액에 침지시켜 제거하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 산화티타늄 나노튜브를 형성하는 단계 이전에,상기 임플란트 본체 표면을 샌드블라스팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 샌드블라스팅하는 단계는,샌드블라스트 메디아를 상기 임플란트 본체 표면에 타격하여 상기 임플란트 본체 표면에 50㎛ 내지 500㎛의 마이크로 요홈을 형성시키는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 산화티타늄 나노튜브를 형성하는 단계 이전에,SLA(Sand blasted, Large-grit, Acid etched) 공법을 통해 상기 임플란트 본체를 표면처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 SLA 공법은,상기 임플란트 본체 표면을 샌드블라스팅하는 단계와;상기 임플란트 본체를 산에 침지시켜 식각하는 단계와;상기 산을 중화하기 위해 상기 임플란트 본체를 염기세척하는 단계와;상기 산 및 상기 염기를 제거하기 위해 물 또는 증류수로 세척하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트 제조방법
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티타늄 금속 또는 티타늄 합금으로 이루어진 임플란트 본체를 양극산화하여 산화티타늄 나노튜브를 형성하고, 상기 산화티타늄 나노튜브를 제거하여 상기 임플란트 본체 표면에 요홈이 형성됨에 의해 상기 임플란트 본체가 구성되며,상기 요홈은 직경이 10nm 내지 1,000nm 크기를 가지는 반구상의 형상을 지니며, 반구상의 상기 요홈은 표면에 수 나노미터 크기의 미세기공(pore)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트
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제 16항에 있어서,상기 요홈은 반구상의 형상을 지니며,상기 요홈은 직경 및 높이의 비율이 직경 : 높이 = 1 : 0
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제 16항에 있어서,상기 임플란트 본체는 10nm 내지 1,000nm 두께의 산화막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트
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제 16항에 있어서,상기 임플란트 본체는 상기 요홈보다 큰 사이즈인 1㎛ 내지 50㎛의 중간 요홈과, 상기 중간 요홈보다 큰 사이즈인 50㎛ 내지 500㎛의 마이크로 요홈이 형성된 것을 특징으로 하는 나노패터닝 요홈 표면을 갖는 임플란트
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