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폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법에 있어서,일측은 유기기를 가진 반응성실란의 반응기와 화학적으로 결합을 하며, 타측은 폴리아믹산의 반응기와 반응이 가능한 이중반응구조 유기물을 합성하는 단계와;상기 이중반응구조 유기물과 반응성실란을 이용하여 일측에 사슬형 실란을 합성하는 단계와;상기 사슬형 실란을 염기 촉매조건에서 합성된 세라믹졸 표면에 반응시켜 그래프트(graft)하는 단계와;상기 사슬형 실란이 그래프트된 세라믹졸을 폴리아믹산과 혼합하여 하이브리드 바니쉬 용액을 형성하는 단계와;상기 바니쉬 용액을 캐스팅 및 건조하여 필름을 제조하고, 열처리를 통해 상기 사슬형 실란이 그래프트된 세라믹졸과 상기 폴리아믹산 간의 화학적 반응과 상기 폴리아믹산의 이미드화를 통해 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 이중반응구조 유기물을 합성하는 단계에서,상기 이중반응구조 유기물은 하기의 화학식 1 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 화학식 1에서 상기 A1 만 선택적으로 먼저 반응이 이루어지며, 이후에 상기 A1 반응보다 고온에서 상기 A2의 반응이 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 사슬형 실란을 합성하는 단계에서,상기 반응성실란은 하기의 화학식 2 구조로 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 사슬형 실란을 세라믹졸 표면에 반응시켜 그래프트(graft)하는 단계에서,상기 세라믹졸은 실리카(silica, SiO2), 알루미나(alumina, Al2O3), 알루미늄실리케이트(aluminium silicate), 지르코니아(zirconia, ZiO2), 티타니아(titania, TiO2), 보론나이트라이드(Boron nitride, BN) 및 이의 혼합으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재 제조방법
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폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재에 있어서,상기 1 내지 5항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 폴리이미드/세라믹졸 나노융합 필름소재
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