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다공성 지지체; 및상기 다공성 지지체 상에 형성되며, 트리아진계 화합물에 의해 가교된 구조를 가지는 피페라진계 폴리아마이드 활성층;을 포함하고,상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층은 하기 수학식 1 및 수학식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막:003c#수학식 1003e#003c#수학식 2003e#상기 식에서,N, O는 각각 상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층의 전체 중량에 대한 질소와 산소의 중량 백분율이고,m, n은 각각 상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층 중 가교된 부분과 선형 부분의 분율이고, 0
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제1항에 있어서,상기 다공성 지지체는 폴리에스테르 부직포에 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 폴리아마이드, 폴리에테르이미드, 폴리아크릴로니트릴, 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 및 할로겐화 고분자로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상의 고분자로 캐스팅되어 형성된 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막
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제1항에 있어서,상기 트리아진계 화합물은 1,2,3-트리아진, 1,2,4-트리아진, 및 1,3,5-트리아진으로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막
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제3항에 있어서,상기 트리아진계 화합물은 1,3,5-트리아진인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막
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제4항에 있어서,상기 1,3,5-트리아진은 멜라민인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막
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삭제
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제1항에 있어서,상기 나노분리막의 수투과도는 15GFD 이상인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막
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(a) 피페라진 및 트리아진계 화합물을 포함하는 아민 수용액을 준비하는 단계;(b) 다공성 지지체를 상기 아민 수용액에 적용하는 단계; 및(c) 상기 다공성 지지체를 아민 반응성 화합물을 포함하는 유기 용액에 적용하여 상기 다공성 지지체 상에 상기 트리아진계 화합물에 의해 가교된 구조를 가지는 피페라진계 폴리아마이드 활성층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층은 하기 수학식 1 및 수학식 2를 만족하는 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막의 제조방법:003c#수학식 1003e#003c#수학식 2003e#상기 식에서,N, O는 각각 상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층의 전체 중량에 대한 질소와 산소의 중량 백분율이고,m, n은 각각 상기 피페라진계 폴리아마이드 활성층 중 가교된 부분과 선형 부분의 분율이고, 0
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제8항에 있어서,상기 아민 수용액 중 상기 피페라진의 함량은 0
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제8항에 있어서,상기 아민 수용액 중 상기 트리아진계 화합물의 함량은 0
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제8항에 있어서,상기 아민 반응성 화합물은 트리메조일클로라이드(TMC), 이소프탈로일클로라이드(IPC), 테레프탈로일클로라이드(TPC) 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나인 것을 특징으로 하는 폴리아마이드계 나노분리막의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 유기 용액 중 상기 아민 반응성 화합물의 함량은 0
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