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(a) 질화붕소 입자를 금속 염 및 산으로 전처리하는 단계;(b) 상기 전처리된 질화붕소 입자를 실란계 화합물로 표면 처리하는 단계; 및(c) 상기 표면 처리된 질화붕소 입자 및 에폭시 수지를 혼합하는 단계; 를 포함하는, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 질화붕소가 판상형의 육방정계 질화붕소 입자인, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 질화붕소 입자의 평균 입도가 1 ㎛ 이하인, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 염이 질산나트륨, 차아염소산리튬, 과염소산리튬, 망간산리튬, 질산리튬, 질산세슘, 염소산칼륨, 과망간산칼륨 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 산이 황산, 질산, 염산, 인산 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계의 상기 전처리가 160 내지 250℃에서 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계의 상기 전처리가 4 내지 10 시간 동안 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 실란계 화합물이 3-아미노프로필트리에톡시실란인, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 90 내지 150℃에서 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 4 내지 10 시간 동안 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형(bis-phenol A type)으로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법
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