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기판;상기 기판의 제1표면에 소정의 형태로 형성된 제1 패턴;상기 제1패턴에 대해 이격된 위치의 상기 기판의 제1표면에 소정의 형태로 형성된 제2 패턴;상기 제1 및 제2 패턴에 접속되며, 상기 제1 및 제2 패턴을 통해 인가되는 바이어스에 의해 입사되는 광을 변조하는 광변조 소자;상기 제1표면의 반대편인 상기 기판의 제2표면에 형성되는 것으로서, 바이어스 공급부로부터 공급된 상기 바이어스가 상기 제1 및 제2 패턴으로 전달되기 위해 상기 제1 및 제2 패턴에 전기적으로 연결된 바이어스 라인부;를 구비하는, 공간 광 변조기
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제1항에 있어서, 상기 바이어스 라인부는 상기 기판의 제2표면에 설치되며, 제1바이어를 통해 상기 제1 패턴에 전기적으로 연결된 제1라인부재;상기 기판의 제2표면에 설치되며, 제2바이어를 통해 상기 제2 패턴에 전기적으로 연결된 제2라인부재;를 구비하는,공간 광 변조기
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제2항에 있어서, 상기 제1바이어는 양단이 각각 상기 제1라인부재 및 제1 패턴에 연결될 수 있도록 상기 기판에 관통되게 설치된, 공간 광 변조기
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제2항에 있어서, 상기 제2바이어는 양단이 각각 상기 제2라인부재 및 제2 패턴에 연결될 수 있도록 상기 기판에 관통되게 설치된, 공간 광 변조기
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5
제2항에 있어서, 상기 바이어스 공급부에 연결되는 것으로서, 상기 기판의 제1표면에 설치되며, 제1연결부재에 의해 상기 제1라인부재에 전기적으로 연결된 소스 콘택부재;상기 기판의 제1표면에 설치되며, 제2연결부재에 의해 상기 제2라인부재에 전기적으로 연결된 드레인 콘택부재;를 구비하는,공간 광 변조기
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제5항에 있어서, 상기 제1연결부재는 양단이 각각 상기 소스 콘택부재 및 제1라인부재에 결합되도록 상기 기판에 관통되게 설치된,공간 광 변조기
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제5항에 있어서, 상기 제2연결부재는 양단이 각각 상기 드레인 콘택부재 및 제2라인부재에 결합되도록 상기 기판에 관통되게 설치된, 공간 광 변조기
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8
제2항에 있어서, 상기 제1 및 제2라인부재는 상호 나란한 방향으로 소정길이 연장형성된, 공간 광 변조기
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제2항에 있어서, 상기 광변조 소자는 입사되는 테라헤르츠 파를 변조하는 테라헤르츠 파 변조기이고, 상기 제1라인부재는 상기 기판의 제1표면으로 입사되는 상기 테라헤르츠 파의 전기장(electric field)의 방향에 대해 교차하는 방향으로 연장형성된, 공간 광 변조기
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제2항에 있어서, 상기 광변조 소자는 입사되는 테라헤르츠 파를 변조하는 테라헤르츠 파 변조기이고, 상기 제2라인부재는 상기 기판의 제1표면으로 입사되는 상기 테라헤르츠 파의 전기장의 방향에 대해 교차하는 방향으로 연장형성된, 공간 광 변조기
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11
제2항에 있어서, 상기 제1패턴은 상기 기판의 제1표면에 소정길이로 연장형성된 제1메인라인과, 상기 광변조 소자에 연결되기 위해 상기 제1메인라인으로부터 상기 제2패턴에 인접되도록 상기 제1메인라인의 길이방향에 대해 교차하는 방향으로 연장된 제1연결라인을 구비하는,공간 광 변조기
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제11항에 있어서, 상기 제1라인부재는 상기 바이어스가 상기 광변조 소자로 입사되는 광에 간섭되는 것이 방지될 수 있도록 상기 기판의 제2표면에 상기 제1메인라인의 길이방향을 따라 연장형성된, 공간 광 변조기
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제12항에 있어서,상기 제1라인부재는 복수개가 상기 제1연결라인의 길이방향을 따라 상호 이격되게 형성된, 공간 광 변조기
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제11항에 있어서, 상기 제2패턴은 상기 제1메인라인으로부터 이격된 위치의 상기 기판의 제1표면에, 상기 제1메인라인의 길이방향을 따라 소정길이 연장된 제2메인라인과, 상기 광변조 소자에 연결되기 위해 상기 제2메인라인으로부터 상기 제1패턴에 인접되도록 상기 제2메인라인의 길이방향에 대해 교차하는 방향으로 연장된 제2연결라인을 구비하는,공간 광 변조기
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제14항에 있어서, 상기 제2라인부재는 상기 바이어스가 상기 광변조 소자로 입사되는 광에 간섭되는 것이 방지될 수 있도록 상기 기판의 제2표면에 상기 제2메인라인의 길이방향을 따라 연장형성된, 공간 광 변조기
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16
제15항에 있어서, 상기 제2라인부재는 복수개가 상기 제2연결라인의 길이방향을 따라 상호 이격되게 형성된, 공간 광 변조기
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