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복사 냉각의 대상인 시스템과 연결되는 하부 금속층, 상기 하부 금속층 위에 마련되어 공진을 통해 유채색을 발색하기 위한 유전체층, 및 상기 유전체 위에 마련되는 상부 금속층을 포함하는 MIM층; 및상기 상부 금속층 위에 마련되어 수동 복사 특성을 나타내는 열 방사층을 포함하는수동 냉각 복사 구조
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제 1 항에 있어서,상기 상부 금속층은 금(Au), 구리(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti) 또는 백금(Pt) 중 어느 하나로 구성되고, 상기 하부 금속층은 금(Au), 구리(Cu), 은(Ag) 또는 백금(Pt) 중 어느 하나로 구성되고,상기 상부 금속층의 재질과 상기 하부 금속층의 재질은 같거나 다른수동 냉각 복사 구조
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제 1 항에 있어서,상기 유전체층은, SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O3, SiC, HfO2 또는 SiNx 중 어느 하나로 구성되는 단일 층을 포함하거나, 상기 SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O3, SiC, HfO2 또는 SiNx 중 둘 이상의 유전체가 각각 하나의 층을 구성하는 복수 층을 포함하는수동 냉각 복사 구조
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제 1 항에 있어서,상기 열 방사층은 PDMS(Polydimethylsiloxane), TPX(polymethylpentene), Polyimide, PVDF(Polyvinylidene difluoride) 또는 PET 중 어느 하나로 구성되는수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 MIM층은,가시광선 대역에서, 상기 유채색의 발색에 필요한 파장의 흡수율을 선택적으로 증가시키는수동 냉각 복사 구조
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제 1 항에 있어서,상기 MIM층은,상기 상부 금속층, 하부 금속층 및 상기 유전체층 중 적어도 하나의 두께가 변경됨에 따라 다른 색상을 발색하는수동 냉각 복사 구조
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제 1 항에 있어서,상기 유전체층은, SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O3, SiNx, PDMS, Polyimide, PVDF, PMMA 또는 SU8 중 어느 하나로 구성되거나 둘 이상의 조합으로 구성되고,상기 SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O3, SiNx, PDMS, Polyimide, PVDF, PMMA 또는 SU8는,가시광 대역에서 투명한 유전체 물질인수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 상부 금속층의 두께는,10 nm 내지 40 nm인수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 하부 금속층의 두께는,40 nm 내지 1um인수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 열 방사층은, 대기의 창 영역에서 방사율을 증가시키고,SiO2, HfO2, TiO2, SiC, Ta2O3 및 Si3N4 중 둘 이상이 각각 하나의 층을 구성하는 복수의 층을 포함하는수동 냉각 복사 구조
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제 10항에 있어서,상기 열 방사층은,상기 MIM층 위에 마련되고 Si3N4로 구성되는 제1층; 및상기 제1층 위에 마련되고 SiO2로 구성되는 제2층을 포함하는수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,Si3N4로 구성되는 제1층 및 상기 제1층 위에 마련되고 SiO2로 구성되는 제2층을 포함하는 상기 열 방사층이 상기 MIM층 위에 마련되는 경우, PDMS(Polydimethylsiloxane)로 구성되는 상기 열 방사층이 상기 MIM층 위에 마련되는 경우보다 대기의 창 영역에서의 방사율이 더 큰수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 MIM층은,적외선 대역의 반사율이 가시광선 대역의 반사율보다 높은수동 냉각 복사 구조
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제 1항에 있어서,상기 MIM층의 일부 영역은, 상기 하부 금속층, 상기 유전체층 및 상기 상부 금속층을 모두 포함하고,상기 MIM층의 다른 일부 영역은, 상기 유전제층을 제외하고, 상기 하부 금속층 및 상기 상부 금속층을 포함하는수동 냉각 복사 구조
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제 14항에 있어서,상기 MIM층의 일부 영역은 제1 영역 및 제2 영역을 포함하고,상기 제1 영역에서의 상기 유전체층의 두께와 상기 제2 영역에서의 상기 유전체층의 두께는 서로 상이한수동 냉각 복사 구조
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