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광이성화 디페닐아세틸렌-아조벤젠 중합성 메조겐 화합물 및 이를 포함하는 고분자

  • 기술번호 : KST2019025477
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 아조벤젠 화합물, 이를 포함하는 홀로그램 기록용 조성물, 홀로그램 기록용 매체, 이를 사용한 홀로그램 기록 재료 및 홀로그램 기록 또는 재기록 방법에 관한 것으로써, 본 발명의 아조벤젠 단량체 화합물은 광 조사에 의해 이성질화가 일어나고, 적은 양의 광조사에 의해서도 굴절율 변화를 크게 할 수 있고 매우 빠른 동적 특성을 나타내는 고복굴절율 부분을 포함하고 있어 아조벤젠 단량체 화합물을 포함하는 고분자는 레이저 조사에 의한 홀로그램 기록/재기록 소재로 유용하게 사용될 수 있다.
Int. CL C07C 245/08 (2006.01.01) C08F 20/06 (2006.01.01) G11B 7/0065 (2006.01.01) G11B 7/244 (2006.01.01) G03H 1/02 (2006.01.01)
CPC C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01) C07C 245/08(2013.01)
출원번호/일자 1020170060110 (2017.05.15)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1869388-0000 (2018.06.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180621) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.05.15)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진수 대한민국 대전광역시 유성구
2 서영범 대한민국 경기도 여주시
3 가재원 대한민국 대전광역시 유성구
4 김윤호 대한민국 대전광역시 유성구
5 원종찬 대한민국 대전광역시 서구
6 이미혜 대한민국 대전광역시 유성구
7 도선정 대한민국 대전광역시 유성구
8 이성구 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2017-0460366-41
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
4 등록결정서
Decision to grant
2018.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0391777-87
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 디페닐디아세틸렌-아조벤젠 중합성 메조겐 화합물:[화학식 1](상기 화학식 1에 있어서,X1, X2, X3, Y1, Y2 및 Y3는 각각 수소 또는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C5 알킬인 하나 이상의 치환기이고;Z는 수소, -NO2, -CN, -NC0, -NCS, 할로겐, 아실, 아실아미노, 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C10 알킬, 알킬옥시 또는 알킬티옥시이고;L은 -NR1-, -O-, -S- 또는 -S(=O)2- 이고, 이때, 상기 R1는 수소, 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C10 알킬이고;Sp는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C20 알킬렌, 알킬렌옥시 또는 알킬렌티오기이고; 및P는 광, 열 또는 음이온에 의한 중합성 아크릴 반응기이다)
2 2
제1항에 있어서,X1, X2, X3, Y1, Y2 및 Y3는 각각 수소, -CH3, -CH2CH3, -CH2F, -CHF2, -CF3 및 -CH2CF3으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상의 치환기이고;Z는 수소, -NO2, -CN 또는 -CF3이고;L은 -NH-, -N(CH3)-, -N(CH2CH3)- 또는 -O- 이고;Sp는 비치환 또는 하나 이상의 플루오로로 치환된 직쇄 또는 측쇄의 C1-C20 알킬렌이고; 및P는 광, 열 또는 음이온에 의한 중합성 아크릴 반응기인 것을 특징으로 하는 디페닐디아세틸렌-아조벤젠 중합성 메조겐 화합물
3 3
제1항에 있어서,P는 , , , , , , , , , 또는 인 것을 특징으로 하는 디페닐디아세틸렌-아조벤젠 중합성 메조겐 화합물
4 4
제1항의 디페닐디아세틸렌-아조벤젠 중합성 메조겐 화합물을 포함하는 고분자
5 5
제4항에 있어서,상기 고분자는 바이닐 아크릴 단량체를 포함하는 화합물과 중합된 것을 특징으로 하는 고분자
6 6
제4항의 고분자를 포함하는 광 굴절율 변조 중합체 조성물
7 7
제4항의 고분자를 포함하는 홀로그램 기록용 조성물
8 8
제7항의 홀로그램 기록용 조성물로 이루어진 기록층이 기판 위에 형성된 홀로그램 기록 매체
9 9
제4항의 고분자로 박막으로 제조하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 제조된 박막에 레이저 회절무늬를 조사하는 단계(단계 2);를 포함하는 홀로그램 기록 방법
10 10
제8항의 홀로그램 기록 매체에 홀로그램을 기록할 때 사용된 기준광만을, 상기 홀로그램 기록 매체에 조사하는 단계를 포함하는 홀로그램 재기록 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국화학연구원 산업핵심기술개발사업 (RCMS)R/G/B 컬러 구현이 가능한 고감도 (30mJ/cm2이하) 3차원 홀로그래피 재기록 소재 및 1 fps 이상의 화면 전환기술 개발
2 미래창조과학부 한국화학연구원 기관고유사업 모바일산업용 고내열 핵심 화학소재 개발
3 미래창조과학부 한국화학연구원 기관고유사업 모바일산업용 고내열 핵심 화학소재 개발