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동공을 가지는 다공성 이산화주석 구조체의 표면에 코팅된 이산화티타늄을 포함하고,상기 다공성 이산화주석 구조체의 동공들은 서로 연결된 구조를 가지는 것이며,상기 다공성 이산화주석 구조체의 동공들은 서로 연결된 구조를 가짐으로써 상기 동공에 형성된 이산화주석 구조체도 서로 연결된 구조를 가지고, 상기 다공성 이산화주석 구조체의 표면에 코팅된 이산화티타늄도 서로 연결된 구조를 가지는 것인,이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체
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제 1 항에 있어서,상기 다공성 이산화주석 구조체의 동공들의 배열은 역오팔 구조를 가지는 것인, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체
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기재 상에 고분자 희생층을 형성하는 단계;상기 고분자 희생층에 이산화주석을 충진하는 단계;상기 희생층을 제거하여 역오팔 구조의 다공성 이산화주석 구조체를 형성하는 단계; 및,상기 다공성 이산화주석 구조체에 이산화티타늄을 코팅하는 단계를 포함하는, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법으로서,상기 다공성 이산화주석 구조체의 동공들은 서로 연결된 구조를 가지는 것이며,상기 다공성 이산화주석 구조체의 동공들은 서로 연결된 구조를 가짐으로써 상기 동공에 형성된 이산화주석 구조체도 서로 연결된 구조를 가지고, 상기 다공성 이산화주석 구조체의 표면에 코팅된 이산화티타늄도 서로 연결된 구조를 가지는 것인,이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 희생층은 열처리에 의해 제거되는 것인, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 이산화티타늄을 코팅하는 단계는, 상기 다공성 이산화주석 구조체를 이산화티타늄 전구체-함유 용액에 침지한 후, 소결하여 코팅되는 것인, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법
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제 6 항에 있어서,상기 소결은 400℃ 내지 600℃에서 수행되는 것인, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법
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제 4 항에 있어서,상기 고분자 희생층을 형성하기 위한 고분자 입자는 폴리스타이렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스타이렌/폴리디비닐벤젠, 폴리아미드, 폴리(부틸메타크릴레이트-디비닐벤젠), 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체의 제조 방법
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제 1 항 또는 제 2 항에 따른 이산화주석-이산화티타늄 코어-쉘 구조체를 포함하는,염료감응 태양전지용 광전극
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